多弧离子镀制备TiN涂层的高温氧化行为分析

发布时间：2021-11-10 06:56

　　利用多弧离子镀技术沉积TiN涂层,并在空气中对该涂层进行了500⁶80℃范围内的氧化实验.通过SEM与XRD技术分析了实验制备的TiN涂层及其氧化产物的结构形貌,结果表明:多弧离子镀技术所沉积的TiN涂层表面较为粗糙,存在大量颗粒与凹坑;TiN涂层在空气中的氧化产物为TiO2,550℃时存在较轻程度的氧化行为,随着温度的升高,氧化作用加剧,在温度为650℃时TiN涂层氧化程度加深,但剥落并不明显,当温度超过650℃达到680℃,TiN涂层完全氧化,部分区域因为应力作用而发生严重剥落. 

【文章来源】：中南民族大学学报(自然科学版). 2015,34(04)北大核心

【文章页数】：4 页

【文章目录】：
1 实验部分
2 实验结果与讨论
    2. 1 Ti N涂层表面形貌与结构分析
    2. 2 不同温度Ti N涂层氧化表面观察
    2. 3 Ti N涂层各温度下氧化物物相分析
3 结论



本文编号：3486793