化学机械微细磨削化学改性液理化性能研究
发布时间:2021-11-22 05:33
单晶硅是光伏产业、航空和航天等高性能零件应用领域常用的硬脆材料,具有化学稳定性好、硬度大、脆性高、耐磨性好、化学机械性能优良等特点。在对单晶硅进行三维微结构微细磨削加工过程中,极易产生棱角边刃裂纹、崩边、缺角等加工损伤缺陷,进而影响其使役性能。为实现硬脆材料微小零件三维结构的少缺陷,甚至无缺陷的高质量及高效率加工,本文将化学机械加工技术中的化学改性作用引入到微细磨削加工中,侧重研究化学改性液对单晶硅材料实现化学改性的反应条件并分析其理化性能;优化化学改性液溶液反应条件参数,探讨化学机械微细磨削过程中化学改性液对单晶硅材料的改性机理。本文具体研究内容包括:(1)单晶硅化学改性机理研究。以(100)晶面单晶硅为研究对象,在材料性能分析基础上,确定化学改性液成分,分析能量输入引发单晶硅化学改性的原理,设计单晶硅化学改性液实验以及介绍理化性能分析测试方法。(2)单晶硅化学改性液化学性能研究。设计基于化学改性液中碱浓度、pH值、反应温度和溶液成分变化的单晶硅化学改性单因素实验,分析各因素变化对单晶硅材料化学改性程度的影响。基于电感耦合等离子体质谱检测和红外光谱检测,分别分析了化学改性后溶液中的S...
【文章来源】:湖南大学湖南省 211工程院校 985工程院校 教育部直属院校
【文章页数】:71 页
【学位级别】:硕士
【部分图文】:
化学机械微细磨削加工示意图
单晶硅的晶体结构
(a)化学改性前 (b)化学改性后图 2.3 化学改性前后单晶硅材料进行化学改性实验首先即是配制化学改性液,如图 2.2 所示,为了使整制过程流畅、有序,首先集中准备好配制溶液所需的化学试剂、称量工
【参考文献】:
期刊论文
[1]硅片低损伤磨削砂轮及其磨削性能[J]. 王紫光,高尚,朱祥龙,董志刚,康仁科. 光学精密工程. 2017(10)
[2]抛光液pH值、温度和浓度对蓝宝石抛光效率的影响[J]. 董双阳,颜志强,刘祖耀,冉红锋,张俭,屠锡富,黄勇,杨春光. 表面技术. 2017(05)
[3]机械力化学改性白云母增强聚丙烯复合材料[J]. 冯刚,赵静,李艳,赵岩岩,徐建中,谢吉星. 硅酸盐学报. 2017(05)
[4]单晶蓝宝石衬底晶片的化学机械抛光工艺研究[J]. 余青,刘德福,陈涛. 表面技术. 2017(03)
[5]木质素的化学改性及其对AuCl4-的吸附[J]. 张保平,马钟琛,刘运,郭美辰,杨芳. 化工学报. 2017(05)
[6]超精度石英玻璃的化学机械抛光[J]. 王仲杰,王胜利,王辰伟,张文倩,郑环. 微纳电子技术. 2017(01)
[7]不同pH值下过氧化氢对Ru的CMP的影响[J]. 郑环,周建伟,刘玉岭,王辰伟,张乐,王仲杰. 微纳电子技术. 2017(01)
[8]LED蓝宝石衬底抛光表面原子台阶形貌及其周期性研究[J]. 周艳,潘国顺,史晓磊,龚桦,邹春莉,汤皎宁. 光学精密工程. 2017(01)
[9]单晶碳化硅和蓝宝石基片化学机械抛光的表面反应层形成机制的研究进展[J]. 甘阳,张飞虎. 科学通报. 2016(36)
[10]使用雾化液的K9光学玻璃化学机械磨削[J]. 戴恒震,油艳红,戴智弘,金洙吉. 金刚石与磨料磨具工程. 2016(04)
博士论文
[1]全瓷冠修复体的破坏机理研究[D]. 鲁成林.上海大学 2012
[2]微针阵列干电极的设计、制作及应用[D]. 王宇.兰州大学 2012
[3]大尺寸硅片磨削平整化理论与工艺技术的研究[D]. 田业冰.大连理工大学 2007
[4]单晶硅片超精密磨削加工表面层损伤的研究[D]. 张银霞.大连理工大学 2006
硕士论文
[1]单晶硅超精密切削裂纹扩展过程离散元仿真[D]. 李运涛.燕山大学 2017
[2]抽油杆接箍外衬耐磨耐高温材料的研究[D]. 孙桃.扬州大学 2017
[3]飞秒激光湿法刻蚀硅基微纳结构[D]. 马云程.吉林大学 2016
[4]氧化镁普鲁兰复合脱氟剂的再生研究[D]. 胡颖.华中科技大学 2016
[5]大尺寸单晶硅阵列窄沟槽磨削加工技术研究[D]. 艾小忱.大连理工大学 2015
[6]K9光学玻璃湿式化学机械磨削及其磨具的研究[D]. 油艳红.大连理工大学 2015
[7]单晶硅纳米切削机理与微结构演化的内在关联性研究[D]. 赵腾.燕山大学 2015
[8]K9光学玻璃化学机械磨削用磨具的研制及性能研究[D]. 王斌.大连理工大学 2013
[9]精细雾化抛光系统设计及雾化参数的研究[D]. 刘晓鹏.江南大学 2011
[10]Al2O3陶瓷化学机械磨削用磨具的研制及性能研究[D]. 陶占春.大连理工大学 2010
本文编号:3511040
【文章来源】:湖南大学湖南省 211工程院校 985工程院校 教育部直属院校
【文章页数】:71 页
【学位级别】:硕士
【部分图文】:
化学机械微细磨削加工示意图
单晶硅的晶体结构
(a)化学改性前 (b)化学改性后图 2.3 化学改性前后单晶硅材料进行化学改性实验首先即是配制化学改性液,如图 2.2 所示,为了使整制过程流畅、有序,首先集中准备好配制溶液所需的化学试剂、称量工
【参考文献】:
期刊论文
[1]硅片低损伤磨削砂轮及其磨削性能[J]. 王紫光,高尚,朱祥龙,董志刚,康仁科. 光学精密工程. 2017(10)
[2]抛光液pH值、温度和浓度对蓝宝石抛光效率的影响[J]. 董双阳,颜志强,刘祖耀,冉红锋,张俭,屠锡富,黄勇,杨春光. 表面技术. 2017(05)
[3]机械力化学改性白云母增强聚丙烯复合材料[J]. 冯刚,赵静,李艳,赵岩岩,徐建中,谢吉星. 硅酸盐学报. 2017(05)
[4]单晶蓝宝石衬底晶片的化学机械抛光工艺研究[J]. 余青,刘德福,陈涛. 表面技术. 2017(03)
[5]木质素的化学改性及其对AuCl4-的吸附[J]. 张保平,马钟琛,刘运,郭美辰,杨芳. 化工学报. 2017(05)
[6]超精度石英玻璃的化学机械抛光[J]. 王仲杰,王胜利,王辰伟,张文倩,郑环. 微纳电子技术. 2017(01)
[7]不同pH值下过氧化氢对Ru的CMP的影响[J]. 郑环,周建伟,刘玉岭,王辰伟,张乐,王仲杰. 微纳电子技术. 2017(01)
[8]LED蓝宝石衬底抛光表面原子台阶形貌及其周期性研究[J]. 周艳,潘国顺,史晓磊,龚桦,邹春莉,汤皎宁. 光学精密工程. 2017(01)
[9]单晶碳化硅和蓝宝石基片化学机械抛光的表面反应层形成机制的研究进展[J]. 甘阳,张飞虎. 科学通报. 2016(36)
[10]使用雾化液的K9光学玻璃化学机械磨削[J]. 戴恒震,油艳红,戴智弘,金洙吉. 金刚石与磨料磨具工程. 2016(04)
博士论文
[1]全瓷冠修复体的破坏机理研究[D]. 鲁成林.上海大学 2012
[2]微针阵列干电极的设计、制作及应用[D]. 王宇.兰州大学 2012
[3]大尺寸硅片磨削平整化理论与工艺技术的研究[D]. 田业冰.大连理工大学 2007
[4]单晶硅片超精密磨削加工表面层损伤的研究[D]. 张银霞.大连理工大学 2006
硕士论文
[1]单晶硅超精密切削裂纹扩展过程离散元仿真[D]. 李运涛.燕山大学 2017
[2]抽油杆接箍外衬耐磨耐高温材料的研究[D]. 孙桃.扬州大学 2017
[3]飞秒激光湿法刻蚀硅基微纳结构[D]. 马云程.吉林大学 2016
[4]氧化镁普鲁兰复合脱氟剂的再生研究[D]. 胡颖.华中科技大学 2016
[5]大尺寸单晶硅阵列窄沟槽磨削加工技术研究[D]. 艾小忱.大连理工大学 2015
[6]K9光学玻璃湿式化学机械磨削及其磨具的研究[D]. 油艳红.大连理工大学 2015
[7]单晶硅纳米切削机理与微结构演化的内在关联性研究[D]. 赵腾.燕山大学 2015
[8]K9光学玻璃化学机械磨削用磨具的研制及性能研究[D]. 王斌.大连理工大学 2013
[9]精细雾化抛光系统设计及雾化参数的研究[D]. 刘晓鹏.江南大学 2011
[10]Al2O3陶瓷化学机械磨削用磨具的研制及性能研究[D]. 陶占春.大连理工大学 2010
本文编号:3511040
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