磨粒和抛光垫对铝合金化学机械抛光性能的影响

发布时间：2022-11-04 18:46

　　磨粒和抛光垫为化学机械抛光（CMP）提供了重要的机械磨削作用。为了探讨磨粒和抛光垫对铝合金化学机械抛光的磨削作用,研究了不同种类磨粒和抛光垫对材料去除率和表面形貌的影响。结果表明:在pH=12～13时,氧化铝抛光液去除率为910 nm/min,远大于二氧化硅与氧化铈抛光液,且获得较为理想的光滑表面。3种不同抛光垫抛光后的铝合金表面,阻尼布抛光垫表面将不会出现划痕与腐蚀点,表面粗糙度较低,为10.9 nm。随着氧化铝浓度的增大,材料去除率（MRR）和表面粗糙度（Ra）均增加。当氧化铝含量为4wt%时,抛光垫使用阻尼布抛光垫适宜铝合金化学机械抛光,在获得高去除率的同时铝合金表面精度高。 

【文章页数】：5 页

【文章目录】：
1 实验部分
    1.1 铝合金CMP抛光实验
    1.2 抛光液
    1.3 抛光垫种类
2 结果与讨论
    2.1 不同磨粒种类对铝合金表面粗糙度和去除率的影响
    2.2 不同抛光垫种类对铝合金表面粗糙度和去除率的影响
    2.3 氧化铝抛光液浓度对铝合金抛光表面粗糙度和去除率的影响
3 结论


【参考文献】：
期刊论文
[1]抛光压力和抛光垫硬度对PMMA-CeO2核壳复合磨粒抛光性能的影响（英文）[J]. 马翔宇,陈杨.  微纳电子技术. 2019(10)
[2]铝化学机械抛光中1,2,4-三唑和苯并三氮唑的缓蚀机制[J]. 刘萍,王永光,赵永武,朱玉广.  材料保护. 2019(05)
[3]氧化铝抛光液对铝合金化学机械抛光性能的研究（英文）[J]. 张泽芳,张文娟,张善端,李富友.  摩擦学学报. 2019(01)
[4]磨粒和抛光垫特性对蓝宝石超声化学机械抛光的影响[J]. 钟敏,袁任江,李小兵,陈建锋,许文虎.  中国表面工程. 2018(06)
[5]抛光垫特性对氧化镓CMP影响的实验研究[J]. 龚凯,周海,韦嘉辉,宋放,王晨宇.  工具技术. 2018(06)
[6]氧化铝颗粒的表面改性及其在C平面（0001）蓝宝石衬底上的化学机械抛光（CMP）性质（英）[J]. 汪为磊,刘卫丽,白林森,宋志棠,霍军朝.  无机材料学报. 2017(10)
[7]304不锈钢化学机械抛光工艺参数研究[J]. 李庆,陈绍坤,彭亚男,秦洪权,付素芳,苏建修.  金刚石与磨料磨具工程. 2016(05)



本文编号：3701139