热处理气氛对ZrO 2 活性扩散障/NiCrAl涂层界面反应的影响

发布时间：2023-02-22 20:55

　　为研究ZrO2活性扩散障的形成机制,采用电子束物理气相沉积技术(EB-PVD)在DD5镍基高温合金表面分别沉积ZrO2先驱层与NiCrAl涂层,分别在真空条件和大气条件下对试样进行温度为700,800及900℃,时间为5h的高温热处理。分析了试样的截面形貌、扩散反应区厚度以及ZrO2/NiCrAl涂层界面处的元素分布,并研究了热处理气氛对ZrO2/NiCrAl涂层界面反应的影响。结果表明:真空条件更有益于界面反应的进行,并发现经过900℃热处理5h后,ZrO2活性扩散障/NiCrAl涂层界面之间形成了致密的Al2O3阻挡层;而在大气气氛下,NiCrAl涂层中部分Al元素向表面扩散形成氧化膜,从而影响了ZrO2/NiCrAl涂层的界面反应。

【文章页数】：6 页

【文章目录】：
0引言
1试验方法
2结果及讨论
    2.1制备态ZrO2扩散障/NiCrAl涂层的界面
    2.2热处理气氛对ZrO2扩散障/NiCrAl涂层界面微观形貌的影响
    2.3热处理气氛对ZrO2扩散障/NiCrAl涂层界面元素状态的影响
    2.4ZrO2扩散障/NiCrAl界面Al2O3活性扩散障的形成
3热处理气氛对ZrO2活性扩散障形成的影响
4结论



本文编号：3748285