磁流变抛光加工中磁场发生装置的设计与实验

发布时间：2023-03-11 03:37

　　目的研究磁流变抛光加工中磁场发生装置设计对抛光效果的影响。方法设计三种基于电磁铁的磁场发生装置,分别为圆形阵列、扇形和环形磁场,进行三维静磁场有限元仿真,对比分析不同磁场发生装置的磁场强度、方向云图及5 mm高处磁场强度曲线。为保证加工过程中磁场和磁流变液的稳定性,针对三种磁场结构设计不同的冷却方式。制造环形磁场发生装置,将其集成到自制磁流变抛光平台,使用表面经过阳极氧化的铝合金样件进行抛光实验。结果圆形阵列磁场极头间隙处形成高磁场区,随着高度的升高,磁场强度迅速下降。在离极头5 mm高处,磁场强度从300 mT下降到约145 mT,抛光区域磁场强度较小。扇形磁场5 mm高处,磁场强度呈抛物线分布,最大可达330 mT,磁场方向单一,有效抛光区域占比较小。环形磁场5mm高处,磁场强度最大可达240m T,工件运动整个过程都处于高磁场区域,抛光效率高。结论环形磁场发生装置磁场强度和磁场方向都满足抛光要求,有效抛光区域较大,抛光后表面质量明显改善,抛光效果较好。

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【文章目录】：
1 磁流变抛光平台设计
2 磁场发生装置的设计
    2.1 圆形阵列磁场
    2.2 扇形磁场
    2.3 环形磁场
3 实验验证
4 结论



本文编号：3759122