Al衬底取向与ZnO薄膜织构的关系

发布时间：2017-10-09 04:17

  本文关键词：Al衬底取向与ZnO薄膜织构的关系

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【摘要】：以发生了二次再结晶的高纯Al为衬底材料,采用射频磁控溅射法制备了ZnO薄膜。研究了溅射工艺及Al衬底取向对ZnO薄膜的影响,分析了Al衬底取向与ZnO薄膜织构的关系。结果显示,当溅射工艺恰当时,高纯Al衬底上可以制备出晶态ZnO薄膜,但Al衬底的取向对ZnO薄膜的结晶性具有更大的影响。Al衬底的轧面上主要为{100}面织构,沉积的ZnO薄膜主要是{0002}面织构和少量的{112—0}面织构组分。
【作者单位】： 武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室;
【关键词】： 铝衬底 ZnO薄膜 织构
【基金】：湖北省自然科学基金(2014CFB798)
【分类号】：O484.1
【正文快照】： (Received 9 January 2015,accepted 19 March 2015)1引言作为第三代半导体光电材料的杰出代表,Zn O薄膜一直是近些年来的研究热点。Zn O薄膜的应用主要集中在两个方面:一是利用其光电性能的短波长发光器件和太阳能电池等方面的应用[1];另一种是利用其压电性能的声表面波和体

【参考文献】

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本文编号：998114