65nm NOR型闪存芯片RTS噪声研究
[Abstract]:The arrival of the big data era brings new opportunities and challenges to large-capacity memory. Floating gate memory is one of the most widely used non-volatile memory, occupying more than 90% of the market of non-volatile semiconductor memory. Research shows that the reduction of memory size and the improvement of process will bring about devices. Reliability, of which random telegraph signal (RTS) noise problem is more prominent because of the device technology into the nano-era, noise will bring signal jitter, which will affect the correctness of information read, and even cause chip failure in function and performance. The main research contents are as follows: the basic parameters of NOR flash random telegraph noise are obtained; the defect space and energy level distribution of RTS are obtained by random telegraph noise analysis; and the influence of different threshold voltage states on RTS time constant is studied based on capture/emission cross section model. After a lot of experiments, it is concluded that with the increase of threshold voltage, the capture time of RTS noise increases and the emission time decreases, and a capture/emission cross section model is proposed to explain the phenomenon. The physical model of capture/emission cross section, the process of trapping/emission of electrons, and the dependence of RTS noise on the threshold voltage of the device have been deeply understood. These results have certain scientific significance for the physical mechanism of NOR flash RTS noise and the mechanism of reliability degradation. For reference.
【学位授予单位】:郑州大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2017
【分类号】:TP333;TN40
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,本文编号:2221576
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