水射流抛光去除函数对面形误差修正的影响
本文关键词：水射流抛光去除函数对面形误差修正的影响 出处：《中国激光》2016年04期 论文类型：期刊论文
【摘要】：研究了水射流抛光条件下的去除函数特征,根据去除函数的一维轮廓特征采用分段解析函数拟合方法建立了去除函数的解析表达式。根据解析表达式采用Matlab数值模拟方法对不同参数条件下的去除函数进行了一维叠加去除模拟,引入波纹度均方根值Wrms指标,对均匀去除与线性去除条件下不同参数对去除函数一维误差修正的影响进行了讨论。通过两轮水射流抛光实验,使F50 mm熔石英玻璃面形峰谷值λPV由0.148λ收敛至0.062λ,90%与75%口径范围分别收敛至0.048λ与0.032λ。面形均方根值λrms由18.86 nm收敛至4.87 nm,90%与75%口径范围内分别收敛至3.67 nm与3.15 nm。
[Abstract]:The characteristics of removal function under the condition of water jet polishing are studied. According to the one-dimensional contour feature of the removal function, the analytic expression of the removal function is established by using the piecewise analytic function fitting method. According to the analytical expression, the Matlab numerical simulation method is used to remove the parameters under different conditions. The one-dimensional superposition removal simulation of the division function is carried out. The effect of different parameters on the one-dimensional error correction of the removal function under the condition of uniform removal and linear removal is discussed by introducing the Wrms index of waviness RMS. The experiment of two-wheel water jet polishing is carried out. The peak and valley value 位 PV of F50mm fused quartz glass was converged from 0.148 位 to 0.062 位. The range of 90% and 75% aperture converges to 0.048 位 and 0.032 位, respectively. The root-mean-square value 位 rms converges from 18.86 nm to 4.87 nm. It converges to 3.67 nm and 3.15 nm in the range of 90% and 75% respectively.
【作者单位】： 成都精密光学工程研究中心;
【分类号】：O358
【正文快照】： 1引言空间遥感、通讯、电子行业的迅猛发展以及以大型激光装置为代表的一批大科学装置的兴建催生了对超光滑表面、非球面及自由曲面光学元件的需求热潮,也给传统光学加工、特别是古典抛光技术带来了不小的挑战。为了适应新需求、新变化,一批以计算机控制为基础的确定性抛光(CC
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