基于双模成像的液晶微透镜阵列

发布时间：2017-09-25 18:00

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【摘要】：利用向列相液晶材料的各向异性和双折射特点,采用紫外光刻和湿法刻蚀技术,设计并制作了透明的圆孔图案梯度折射率液晶微透镜阵列。搭建了光学测试系统,测试了该阵列的聚焦性能和焦距,并给出了焦距与加载电压之间的关系。将该阵列与主镜头和图像传感器进行耦合,构成一个双模成像相机原型,通过开启或关闭加载电压实现光场成像模式和普通成像模式的快速切换。在两种工作模式下对目标物采集双模原始图像,结果表明该相机既可在光场工作模式下采集三维光场图像,也可在普通工作模式下采集普通图像。
【作者单位】： 华中科技大学多谱信息处理技术国家级重点实验室;石家庄铁道大学信息科学与技术学院;
【关键词】： 成像系统 液晶微透镜阵列 双模成像 梯度折射率透镜 光场成像
【基金】：国家自然科学基金(61176052;61432007) 中央高校基本科研业务费专项资金(2014CG008) 高等学校博士学科点专项科研基金(20130142110007) 中国工程物理研究院太赫兹科学技术基金(CAEPTHZ201402)
【分类号】：O439;TP391.41
【正文快照】： 1引言光场成像技术是一种全新的三维成像方式,不仅可以记录入射光线的强度,还可以记录入射光线的方向。目前获取光场的方式主要有三种:微透镜阵列、相机阵列和掩模相机[1]。其中,微透镜阵列实现方法简单,是当前最常用的光场获取方式,这种方式通过在传统相机的主镜头与图像传感

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本文编号：918742