基于光场成像原理的微纳结构检测方法研究

发布时间：2024-01-21 11:48

　　微纳技术的不断发展,各种微纳器件涌现,广泛应用于工程材料、国防科研、生物技术等领域。微纳技术已经成为衡量国家尖端科学技术水平的指标之一。而检测技术与微纳加工技术相辅相成,是加工精度的重要保障,检测方法不断的向高精度、快速三维检测的方向发展。近年来,随着光场相机的发展,作为计算光学成像领域的一个重要分支,光场成像技术不仅记录了三维物体的空间强度,而且能够捕获物体辐射光线的传播方向信息。这为解决空间深度信息提取、快速三维重建、高精度测量等问题提供了新途径。光场成像技术高精度、快速三维检测的特点得到越来越多的关注。因此,本文提出基于光场成像原理的微纳结构检测方法,对光场检测原理、光场深度提取方法、微透镜阵列设计加工和检测系统进行了深入的理论和应用研究,旨在搭建一套完备的实验系统,对理论方法进行验证,为光场显微检测领域提供可靠的参考。具体开展的研究工作和取得的研究结果如下。第一,研究光场成像当前理论成果,结合仿真实验,对检测光学模型和数学模型进行研究。对光场图像的基本处理方法进行分析,结合实际光场图像和仿真图像进行分析。分别对光场重聚焦、光场极平面图像(Epipolar Plane Image...

【文章页数】：143 页

【学位级别】：博士

本文编号：3881929