扫描干涉场曝光系统中光束对准误差及其控制

发布时间：2018-01-21 10:39

本文关键词： 光学设计光栅扫描干涉场曝光光束对准曝光对比度位置解耦角度解耦　出处：《光学学报》2017年07期 　论文类型：期刊论文

【摘要】：为了提升扫描干涉场曝光光束对准精度,保证制作的光栅掩模槽形的质量,建立了曝光光束对准误差模型,利用模型对光束对准误差进行了分析。同时为了满足系统对光束重叠精度的要求,设计研制了光束自动对准系统,并对曝光光束进行了对准实验。分析结果表明,当光束存在较大对准误差时,光栅基底表面曝光对比度大幅下降,而且由于采用步进扫描的曝光方式,光刻胶表面出现了各处曝光不均匀的现象,影响光栅掩模槽形的质量。设计的对准系统可以对光束角度与位置进行对准调节,系统整体表现出良好的收敛性能,多步调节后可使光束位置对准精度优于10μm,光束角度对准精度优于9μrad。这样的曝光光束对准精度可以满足系统要求,达到了预期的设计目的。
[Abstract]:In order to improve the beam alignment accuracy of scanning interference field exposure and ensure the quality of grating mask grooves, an exposure beam alignment error model is established. The model is used to analyze the beam alignment error. In order to meet the requirements of the system for the precision of beam overlap, the automatic beam alignment system is designed and developed. The experimental results show that the exposure contrast of the grating substrate surface decreases significantly when the beam has a large alignment error, and because of the stepwise scanning exposure mode. The uneven exposure on the surface of photoresist affects the quality of grating mask grooves. The designed alignment system can adjust the beam angle and position, and the whole system shows good convergence performance. After multi-step adjustment, the beam position alignment accuracy is better than 10 渭 m, and the beam angle alignment accuracy is better than 9 渭 rad. this kind of exposure beam alignment accuracy can meet the requirements of the system and achieve the desired design purpose.
【作者单位】：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所国家光栅制造与应用工程技术研究中心;中国科学院大学;
【基金】：国家重大科研装备研制项目(61227901)
【分类号】：O436.1
【正文快照】： 2中国科学院大学,北京10004920世纪90年代,美国麻省理工学院(MIT)为了克服制作大面积全息光栅时静态干涉场曝光方式在透0722003-1镜材料获取和透镜加工方面的困难,提出了一种新的制作全息光栅的技术,即扫描干涉场曝光(SBIL)技术[1-6]。其原理是使两束高斯激光束通过口径不大的

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