飞秒激光作用下薄膜的阈值损伤到膜层剥落

发布时间：2018-03-17 12:11

  本文选题：飞秒激光　切入点：光学薄膜　出处：《红外与毫米波学报》2017年03期 　论文类型：期刊论文

【摘要】：在飞秒单脉冲激光损伤HfO_2/SiO_2薄膜样品实验中,随着激光能量密度升高,膜层从缺陷导致的点损伤发展到整层剥落,损伤区域轮廓由模糊变清晰.研究表明,尺度在纳米量级的颗粒缺陷会产生局部的场增强效应,该效应与薄膜干涉场叠加,造成了阈值损伤阶段损伤区域出现大量损伤点,且由于飞秒激光对包括缺陷在内的薄膜材料的本征损伤特性,使其损伤行为较为确定,随着激光能量的提升,薄膜出现更大面积的规则烧蚀区,此时干涉场的作用上升到主导地位,膜层的整层剥落行为掩盖了缺陷的诱导作用.
[Abstract]:In the experiment of femtosecond monopulse laser damage HfO_2/SiO_2 thin film, with the increase of laser energy density, the film layer developed from point damage caused by defects to the whole layer exfoliation, and the profile of the damage region changed from blur to clarity. Particle defects with nanoscale size will produce local field enhancement effect, which is superimposed with the film interference field, resulting in a large number of damage points in the damage region of threshold damage stage. Due to the intrinsic damage characteristics of femtosecond laser to thin film materials including defects, the damage behavior is determined. With the increase of laser energy, a larger area of regular ablation zone appears in the film. The effect of interference field rises to the dominant position, and the whole delamination of the film obscures the effect of defect induction.
【作者单位】： 国防科学技术大学机电工程与自动化学院;中国人民解放军63880部队光电对抗试验和评估技术重点实验室;国防科学技术大学光电科学与工程学院;
【基金】：国家自然科学基金项目(51675526,91323302,91523101)~~
【分类号】：O484.4;TN249

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本文编号：1624677