低磁场下驻波对螺旋波等离子体均匀性的影响

发布时间：2018-06-23 22:30

  本文选题：驻波 + 均匀性　； 参考：《物理学报》2017年04期

【摘要】：螺旋波放电具有很高的耦合效率,作为一种高密度等离子体源在材料表面处理、薄膜沉积、离子推进器等领域具有广阔的应用前景.不同的波模式下能量耦合的方式直接关系到源区的等离子体分布,进而影响扩散腔中材料的处理和沉积薄膜的均匀性.本文通过电特性(功率-电流)曲线、增强型电荷耦合相机和磁探针诊断等方式对螺旋波等离子体源中出现的角向不均匀性进行研究,认为天线下端出现的驻波螺旋波可能是造成这种现象的关键因素.
[Abstract]:Spiral wave discharge has high coupling efficiency. As a high density plasma source, it has a broad application prospect in the field of material surface treatment, thin film deposition, ion propeller and so on. The mode of energy coupling in different wave modes is directly related to the plasma distribution in the source region, thus affecting the treatment of materials in the diffusion cavity and the homogeneity of the deposited films. In this paper, the angular inhomogeneity in the helical wave plasma source is studied by means of the electric characteristic (power current) curve, the enhanced charge coupling camera and the magnetic probe diagnosis. It is considered that the helical wave at the lower end of the antenna may be the key factor causing this phenomenon.
【作者单位】： 北京印刷学院等离子体物理及材料研究室;
【基金】：国家自然基金(批准号:11375031,11505013) 北京市自然科学基金(批准号:4162024,KZ201510015014,KZ04190116009/001,KM201510015009,KM201510015002)资助的课题~~
【分类号】：O53

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本文编号：2058685