基于电子束剪切干涉的PIE成像技术研究

发布时间：2018-12-08 19:12

【摘要】：提出了基于M?llenstedt电子双棱镜的电压扫描剪切干涉全场ptychographic iterative engine(PIE)显微成像技术.从低到高逐步改变电子双棱镜的电压,并同时记录所形成的剪切干涉条纹,待测样品透射电子束的强度和相位分布就可以用PIE算法得以快速重建,而且双棱镜的方向、位置和实际电场强度分布等诸多实验中不可避免地偏差都可以在迭代过程中自动得以更正.所提技术能够克服现阶段用电子束进行PIE成像的诸多技术困扰,从而有望推动PIE技术在电子显微成像领域的发展和应用.
[Abstract]:A voltage scanning shear interferometric full-field ptychographic iterative engine (PIE) microimaging technique based on M?llenstedt electron biprism is proposed. The voltage of the electron biprism is changed from low to high, and the shear interference fringes are recorded at the same time. The intensity and phase distribution of the transmitted electron beam can be quickly reconstructed by the PIE algorithm, and the direction of the biprism can also be reconstructed. In many experiments, such as position and actual electric field intensity distribution, the deviation can be corrected automatically in the iterative process. The proposed technique can overcome many technical problems of electron beam PIE imaging at this stage, which is expected to promote the development and application of PIE technology in the field of electron microscopic imaging.
【作者单位】： 江南大学理学院光电信息科学与工程系;中国科学院上海光学精密机械研究所;
【基金】：国家自然科学基金(批准号:11647144) 江苏省自然科学基金(批准号:BK2012548)资助的课题~~
【分类号】：O436.1

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本文编号：2368853