快速热退火增强非晶SiC x O y 薄膜蓝绿光发射特性研究

发布时间：2021-01-08 03:17

　　采用甚高频等离子增强化学气相沉积技术,以SiH₄,CH₄和O₂作为反应气源,在150℃下制备非晶碳氧化硅薄膜,并对薄膜进行不同条件下快速热退火处理,研究快速热退火处理对其结构和发光特性的影响.实验表明,原始沉积薄膜在可见光全波段展现较强的光致发光特性,经过快速热退火处理后,其发光强度显著增强.薄膜在700℃经过快速热退火10s后,相比于原始沉积薄膜,其发光强度增强6倍,肉眼可见强的蓝绿光光发射.光荧光谱（PL）分析表明,薄膜的发光峰位不随激发波长的改变而发生明显变化.通过结合拉曼（Raman）光谱及傅里叶红外吸收（FTIR）光谱对薄膜的微结构及键合结构分析,分析了不同退火温度和退火时间对其蓝绿光发射增强机制的影响. 

【文章来源】：南京大学学报(自然科学). 2017,53(03)北大核心

【文章页数】：6 页

【文章目录】：
1 实验部分
2 结果与分析
3 结论



本文编号：2963800