基于Ni电极和ZrO 2 /SiO 2 /ZrO 2 介质的MIM电容的导电机理研究

发布时间：2023-02-19 16:04

　　研究了基于Ni电极和原子层淀积的ZrO₂/SiO₂/ZrO₂对称叠层介质金属-绝缘体-金属(MIM)电容的电学性能.当叠层介质的厚度固定在14nm时,随着SiO₂层厚度从0增加到2nm,所得电容密度从13.1 fF/μm²逐渐减小到9.3fF/μm²,耗散因子从0.025逐渐减小到0.02.比较MIM电容的电流-电压(I-V)曲线,发现在高压下电流密度随着SiO₂厚度的增加而减小,在低压下电流密度的变化不明显,还观察到电容在正、负偏压下表现出完全不同的导电特性,在正偏压下表现出不同的高、低场I-V特性,而在负偏压下则以单一的I-V特性为主导.进一步对该电容在高、低场下以及电子顶部和底部注入时的导电机理进行了研究.结果表明,当电子从底部注入时,在高场和低场下分别表现出普尔-法兰克(PF)发射和陷阱辅助隧穿(TAT)的导电机理;当电子从顶部注入时,在高、低场下均表现出TAT导电机理.主要原因在于底电极Ni与ZrO₂之...

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【文章目录】：
1 引言
2 实验
3 结果与讨论
4 结论



本文编号：3746524