一种高折射率光学树脂单体的合成及模具清洗剂的制备
【图文】:
图 1-1 聚合物 3SDEA-APST 和 3SDEA-BATT 的分子结构010 年,Nam-ho You 等[39]合成了 2,7-双[(2-丙烯酰基乙基)硫基-BAST),其聚合物的折射率为 1.6631。尽管其分子结构简单,但另外两个硫原子存在,不仅增加了分子中硫原子含量,而且显著提
图 1-2 化合物 2,7-BAST 的结构式,,Hyeonuk Yeo 等[40]合成了含硫杂环与硫醚二胺等基团的烷基)-3,4-二乙硫醚基噻吩(APSEDTT),聚合得到三种射率为 1.7327-1.7586,其分子结构如图 1-3 所示:
【学位授予单位】:上海师范大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2019
【分类号】:TQ649.6
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本文编号:2707265
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