基于多组分反应聚酰亚胺的制备与表征
发布时间：2021-07-22 11:06
聚酰亚胺（PI）是一种以热性能为主导综合性能优异的特种工程塑料,被广泛的应用于太阳能电池板、卫星天线、核工业以及消防领域等。为了满足社会高速发展的需求,人们需要对PI的结构与性能进行深层次的挖掘。本论文将多组分反应与PI合成的“二步法”相结合,将多个组分的结构引入到PI的结构中,并使PI的分子链形成了长链线型结构或体型结构。通过将多组分反应引入到PI的合成当中,制备了系列PI材料,并对其结构与性能进行了研究。主要工作如下:1. 以设计合成的一系列不同低分子量二胺封端的聚酰胺酸（PAA）为反应的原料,对苯二甲醛与巯基乙酸为反应的其他原料,通过MALI反应合成了系列高分子量长链线型结构的聚酰亚胺（MPI）。利用核磁共振氢谱（1H NMR）、红外光谱（FTIR）、特性粘度测试对聚合物的结构进行表征和证实反应的顺利进行。采用热重分析（TGA）、综合热分析（TG-DSC）、紫外可见吸收光谱（UV-Vis）、附着力测试、一维X射线衍射（1D WAXD）、热台偏光显微镜（POM）、耐化学性测试、吸水率测试等对系列MPI的性能进行了表征,并探究了亚胺化温度对MPI的性能影响。结果...
【文章来源】：湘潭大学湖南省
【文章页数】：76 页
【学位级别】：硕士
【部分图文】：
共聚聚酰亚胺的结构与力学图
湘潭大学硕士学位论文12图1-11POSS衍生物共混复合聚酰亚胺的过程Qian等人[60]通过将TSPPOSS、溶剂黑34和炭黑CABOTM800混合到聚酰胺酸溶液中，经亚胺化后制备出一种耐原子氧的超黑耐高温聚酰亚胺纳米复合薄膜，如图1-12所示。由于添加剂POSS、染料和炭黑的粒度只有数十微米，所以在聚酰胺酸溶液中有良好耐化学性和分散性。TSPPOSS用于增强原子氧电阻，以抵抗高温原子氧(AO)的侵蚀。采用溶剂黑34和炭黑CABOTM800与聚酰胺酸混合，以制备超低透光率和反射率的超黑聚酰亚胺薄膜。且POSS膜的热膨胀系数(CTE)与Kapton和Cu的CTE值相近，有利于基于分层技术的多层界面工程。通过表征结果显示，TSPPOSS、溶剂黑34和炭黑CABOTM800与聚酰亚胺的纳米复合薄膜表现出优异的抗AO性能、宽光谱超黑光学性能、高发射率和低热膨胀性，在空间应用中具有广阔的运用前景。图1-12耐原子氧的超黑聚酰亚胺纳米复合薄膜及性能图
湘潭大学硕士学位论文12图1-11POSS衍生物共混复合聚酰亚胺的过程Qian等人[60]通过将TSPPOSS、溶剂黑34和炭黑CABOTM800混合到聚酰胺酸溶液中，经亚胺化后制备出一种耐原子氧的超黑耐高温聚酰亚胺纳米复合薄膜，如图1-12所示。由于添加剂POSS、染料和炭黑的粒度只有数十微米，所以在聚酰胺酸溶液中有良好耐化学性和分散性。TSPPOSS用于增强原子氧电阻，以抵抗高温原子氧(AO)的侵蚀。采用溶剂黑34和炭黑CABOTM800与聚酰胺酸混合，以制备超低透光率和反射率的超黑聚酰亚胺薄膜。且POSS膜的热膨胀系数(CTE)与Kapton和Cu的CTE值相近，有利于基于分层技术的多层界面工程。通过表征结果显示，TSPPOSS、溶剂黑34和炭黑CABOTM800与聚酰亚胺的纳米复合薄膜表现出优异的抗AO性能、宽光谱超黑光学性能、高发射率和低热膨胀性，在空间应用中具有广阔的运用前景。图1-12耐原子氧的超黑聚酰亚胺纳米复合薄膜及性能图
【参考文献】：
期刊论文
[1]PI/T-SiO2杂化薄膜的制备及偶联剂的影响[J]. 李元庆,张以河,李明,付绍云. 合成树脂及塑料. 2004(05)
[2]温度对线性和交联聚酰亚胺摩擦磨损性能的影响[J]. 丛培红,李同生,刘旭军,张绪寿,薛群基,李家泽. 高分子学报. 1998(05)
本文编号：3297034
【文章来源】：湘潭大学湖南省
【文章页数】：76 页
【学位级别】：硕士
【部分图文】：
共聚聚酰亚胺的结构与力学图
湘潭大学硕士学位论文12图1-11POSS衍生物共混复合聚酰亚胺的过程Qian等人[60]通过将TSPPOSS、溶剂黑34和炭黑CABOTM800混合到聚酰胺酸溶液中，经亚胺化后制备出一种耐原子氧的超黑耐高温聚酰亚胺纳米复合薄膜，如图1-12所示。由于添加剂POSS、染料和炭黑的粒度只有数十微米，所以在聚酰胺酸溶液中有良好耐化学性和分散性。TSPPOSS用于增强原子氧电阻，以抵抗高温原子氧(AO)的侵蚀。采用溶剂黑34和炭黑CABOTM800与聚酰胺酸混合，以制备超低透光率和反射率的超黑聚酰亚胺薄膜。且POSS膜的热膨胀系数(CTE)与Kapton和Cu的CTE值相近，有利于基于分层技术的多层界面工程。通过表征结果显示，TSPPOSS、溶剂黑34和炭黑CABOTM800与聚酰亚胺的纳米复合薄膜表现出优异的抗AO性能、宽光谱超黑光学性能、高发射率和低热膨胀性，在空间应用中具有广阔的运用前景。图1-12耐原子氧的超黑聚酰亚胺纳米复合薄膜及性能图
湘潭大学硕士学位论文12图1-11POSS衍生物共混复合聚酰亚胺的过程Qian等人[60]通过将TSPPOSS、溶剂黑34和炭黑CABOTM800混合到聚酰胺酸溶液中，经亚胺化后制备出一种耐原子氧的超黑耐高温聚酰亚胺纳米复合薄膜，如图1-12所示。由于添加剂POSS、染料和炭黑的粒度只有数十微米，所以在聚酰胺酸溶液中有良好耐化学性和分散性。TSPPOSS用于增强原子氧电阻，以抵抗高温原子氧(AO)的侵蚀。采用溶剂黑34和炭黑CABOTM800与聚酰胺酸混合，以制备超低透光率和反射率的超黑聚酰亚胺薄膜。且POSS膜的热膨胀系数(CTE)与Kapton和Cu的CTE值相近，有利于基于分层技术的多层界面工程。通过表征结果显示，TSPPOSS、溶剂黑34和炭黑CABOTM800与聚酰亚胺的纳米复合薄膜表现出优异的抗AO性能、宽光谱超黑光学性能、高发射率和低热膨胀性，在空间应用中具有广阔的运用前景。图1-12耐原子氧的超黑聚酰亚胺纳米复合薄膜及性能图
【参考文献】：
期刊论文
[1]PI/T-SiO2杂化薄膜的制备及偶联剂的影响[J]. 李元庆,张以河,李明,付绍云. 合成树脂及塑料. 2004(05)
[2]温度对线性和交联聚酰亚胺摩擦磨损性能的影响[J]. 丛培红,李同生,刘旭军,张绪寿,薛群基,李家泽. 高分子学报. 1998(05)
本文编号：3297034
本文链接：https://www.wllwen.com/projectlw/hxgylw/3297034.html
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