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粉末冶金制备Cu/Invar电子封装复合材料的研究

发布时间:2021-08-08 20:42
  随着信息时代的到来,电子技术高速发展,集成电路集约化、微型化、精细化程度越来越高,对封装材料的性能提出了更为严格的要求,大大推动了新型封装材料的研究和开发。若Cu和Invar复合制备的Cu/Invar复合材料能综合Cu优异的导电和导热性能和Invar合金极低的热膨胀系数,同时兼具良好的成形性能及焊接、电镀等工艺性能,有望克服Al/SiCp、W/Cu及Kovar等电子封装材料的不足,成为它们理想的替代材料。采用机械合金化方法合成Invar合金纳米晶粉体,研究Invar合金粉体在机械合金化合成过程中的结构、形态演变及成分均匀化过程,并讨论其合金化机制。通过粉末冶金工艺制备Cu/Invar电子封装复合材料,采用正交试验方法设计制备工艺,研究Cu/Invar复合材料的显微组织结构及力学、物理性能,优化材料制备工艺参数。机械合金化初期(5-10h),微锻造和冷焊过程使合金粉体呈扁平形复合层状结构,同时FeNi50中的Ni原子逐渐向FeNi30中扩散,发生成分均匀化;球磨40h后,已形成了成分均匀的α’-Fe(Ni)固溶体,其平均晶粒尺寸约为12nm。机械合金化合成的Invar合金粉体呈球形,表面... 

【文章来源】:合肥工业大学安徽省 211工程院校 教育部直属院校

【文章页数】:71 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

粉末冶金制备Cu/Invar电子封装复合材料的研究


Ag/Invar、Cu/Invar材料性质与Ag或Cu含量的关系

表面形貌,表面形貌,原料,预合金粉


第二章 实验材料及方法2.1 实验材料2.1.1 FeNi 预合金粉本论文机械合金化制备 Invar 合金粉所用原料为水雾化 FeNi30 及 FeNi50 合金粉均由北京安泰科技股份有限公司提供(纯度为 99.8%、粒度为-200 目),其成分如表 2.1 所示,其表面形貌如图 2.1 所示。表 2.1 FeNi30 及 FeNi50 预合金粉的化学成分(wt%)Tab. 2.1 Compositions of the FeNi30 and FeNi50 alloy powders (wt%)料 Ni Mn Si Cu Cr Al C S P O i30 29.615 0.005 0.01 0.005 0.009 — — — — 0.234 i50 51.254 <0.0003 0.005 — — 0.012 0.002 0.006 0.006 0.109

示意图,三点弯曲,示意图,抗弯强度


式中 ρ 为烧结态 Cu/Invar 复合材料样品的密度(g/cm3);m1为试样在空气中的质量(g);m2为试样在水中的质量(g);ρ水为水的密度,一般均取 1 g/cm3。2.5.4 力学性能测试2.5.4.1 抗弯强度根据 GB/T5319-2002 烧结金属材料横向断裂强度的测定方法,对粉末冶金制备的 Cu/Invar 复合材料试样进行抗弯强度测试。采用三点弯曲法,在微机控制电子万能试验机进行测试,如图 2.2 所示。压头移动速率为 1 mm/min,跨距为 L=4mm。试样测试前先对样品进行研磨抛光,除去表面缺陷,避免试样表面粗糙度对测量结果的影响。测量烧结态 Cu/Invar 复合材料试样断裂时的外加载荷,计算其抗弯强度:σPL(2.4) 式中:σ 为三点弯曲强度(MPa);P 为断裂时最大载荷(N);L 为跨距(mm);为试样宽度(mm);h 为试样高度(mm)。

【参考文献】:
期刊论文
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硕士论文
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本文编号:3330647

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