高纯钨粉末还原工艺研究

发布时间：2021-11-02 22:31

　　本文对高纯钨粉的还原工艺进行了研究,通过对一次还原、二次还原的温度进行研究表明:一次还原随温度升高粒度逐渐减小,当650℃时二氧化钨粒度为7.5μm,二次还原温度最高温度980℃,钨粉粒度3.0μm～3.5μm,粉末粒度成正态分布,形貌分析还原粉末颗粒形状均比较规则,绝大部分为六面体,颗粒尺度范围较大。 

【文章来源】：中国金属通报. 2020,(05)

【文章页数】：2 页

【文章目录】：
1 试验
    1.1 一次还原温度
    1.2 二次还原温度
    1.3 粉末的粒度分布
    1.4 钨粉形貌分析
2 结论



本文编号：3472495