研磨-煅烧法制备WO 3 /ZnS异质结光催化剂及其光催化性能

发布时间：2023-08-10 20:09

　　采用研磨-煅烧法在Zn S中复合不同含量的WO3(0.5%⁸%,质量分数),形成WO3/Zn S异质结光催化剂,利用N2物理吸附、X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、紫外可见漫反射光谱(UV-vis DRS)、红外光谱(FT-IR)、光电子能谱(XPS)和光致发光谱(PL)等对合成的样品进行了表征;考察不同WO3含量样品对Zn S的结晶度、比表面积、表面羟基、光吸收性能的影响,并以λ=254 nm的紫外光为光源,评价该催化剂光催化降解酸性橙Ⅱ的活性,考察WO3复合对WO3/Zn S样品光催化性能的影响。结果表明:WO3的复合可抑制Zn S晶粒在煅烧过程中的长大,同时提高催化剂的比表面积和催化剂表面的羟基数量,并能有效地抑制光生电子与空穴的复合。当复合1%WO3(质量分数),所制备的WO3/Zn S催化剂的活性最高,比纯Zn S的活性提高了1.8倍。其原因是复合样品具有较好的组织结构的性能,同时,形成的WO3/Zn S异质结有利于光生电子与空穴的分离,从而显著提高光催化剂的脱色活性和稳定性。

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【文章目录】：
1 实验
    1.1 WO3/Zn S制备
    1.2 试样的性能表征
    1.3 光催化降解染料酸性橙Ⅱ
2 结果与讨论
    2.1 XRD和比表面积分析
    2.2 SEM和TEM分析
    2.3 紫外-可见漫反射光谱(UV-vis DRS)分析
    2.4 样品的光致发光(PL)光谱
    2.5 红外光谱(FT-IR)分析
    2.6 光电子能谱(XPS)分析
    2.7 光催化性能测试
    2.8 光催化机理分析
3 结论



本文编号：3841142