激光干涉光刻工艺开发与应用研究.pdf 全文免费在线阅读

2013年 第32卷 第5期 传感器与微系统 TransducerandMicrosystemTechnologies 9 激光干涉光刻工艺开发与应用研究 于 航，陆冰睿，陈国平，刘 冉 复旦大学 微电子系专用集成电路与系统国家重点实验室，上海200433 摘 要：成功开发出以劳厄干涉为基础的激光干涉光刻系统与工艺，该工艺可在大面积范围内加工二维 周期性图形，非常适合于生产光电子器件和微电子器件的周期性结构。通过实验研究了使用该工艺加工 表面纳米结构的流程 ，对比了几种光刻胶在该工艺中的性能特点。该工艺不需要掩模、昂贵的短波长光源 和成像透镜。初步实验结果表明：该工艺可以生产大面积亚微米周期的光栅、点阵以及锥形结构，，为激光 干涉光刻加工纳米结构的后续工作奠定 了基础。 关键词 ：激光干涉光刻；微纳结构；光刻胶 中图分类号：TN205 文献标识码：A 文章编号：1000-9787 2013 05--0009-04 Developmentandapplicationresearch oflaserinterference lithographyprocess YU Hang，LU Bing―mi，CHEN Guo―ping，LIU Ran StateKeyLabofASICandDevice，DepartmentofMicroelectronics， FudanUniversity，Shanghai200433，China Abstract：A Loyld’s-Mirrorlaserinterferencelithographysystem andprocessarcdeveloped，whichcanbeused tofabricatein largeareatwodimensional periodicpattern，thisprocessisespecially suitableforfabrication of period icstructureofopto-electronicdevicesandmicro―electronicdevices．Propertiesofseveralsortsofphotoresists inthisprocessracstudied．Thisprocessdonotneedmask，expensivelensandlightsourcewithshortwavelength． Initialexperimentalresultsshow largeareasubmironperiodicgrating，dotarraysnadconearraypatternscanbe fbaricatedbythisprocess，whichestablishestheexcitingfoundationforthe nanostructurefabricationwith laser interferencelithorgaphy． Keywords：laserinterferencelithorgaphy；micro／nanostructure；photoresist ． 0 引