噻吩甲酸易氧化吗_噻吩怎么读_一种可紫外光固化的聚噻吩衍生物导电高分子材料的制备方法

  本文关键词：噻吩衍生物，由笔耕文化传播整理发布。

专利类型： 发明专利

申请（专利）号： CN201310567995.5

申请日期： 2013年11月14日

公开(公告)日： 2014年2月19日

公开(公告)号： CN103588961A

主分类号： C08G61/12,C08G61/00,C,C08,C08G,C08G61

分类号： C08G61/12,C08G61/00,C07D333/24,C07D333/00,C,C08,C07,C08G,C07D,C08G61,C07D333,C08G61/12,C08G61/00,C07D333/24,C07D333/00

申请（专利权）人： 江南大学

发明（设计）人： 袁妍,张煜霖,刘仁,刘晓亚

主申请人地址： 214122 江苏省无锡市滨湖区蠡湖大道1800号

专利代理机构： 无锡市大为专利商标事务所 32104

代理人： 殷红梅

国别省市代码： 江苏;32

主权项： ?一种可紫外光固化的聚噻吩衍生物导电高分子材料的制备方法，其特征是步骤为：（1）噻吩衍生物单体的制备：在惰性气体的保护下，将二异氰酸酯与3位上带有羟基或氨基的噻吩衍生物按照羟基摩尔比1:1混合成为反应体，并加入按反应体总重量计0.04%?0.18%的金属锡化合物催化剂，在第一溶剂存在下，冰水浴中反应2?4h；再升温至50?70℃，继续反应4?7h，获得带有异氰酸根基团的噻吩衍生物；继续在反应体中加入一端带有羟基或氨基、一端带有紫外光敏基团的化合物，及按反应体双键摩尔数计，摩尔数为0.1%?0.5%的阻聚剂，保证其与二异氰酸酯的摩尔比为1:1，保持在70?80℃，在惰性气体和第二溶剂存在下反应7?12h，获得带有可紫外光固化光敏基团的噻吩衍生物单体；（2）聚合物的制备：在有机溶剂中加入步骤（1）制备的噻吩衍生物单体，，在催化剂作用下以转速500?2500r/min搅拌反应8?16h，催化剂与噻吩衍生物单体的摩尔比为1:1?5，随后加入有机溶剂体积量10?15倍的甲醇沉降4?7次，后得到可紫外光固化聚噻吩衍生物导电材料。

法律状态： 公开，公开

  本文关键词：噻吩衍生物，由笔耕文化传播整理发布。