三价铬电镀装饰铬工艺及特性研究

发布时间：2018-06-01 11:29

  本文选题：三价铬电镀 + 六价铬　； 参考：《材料保护》2008年01期

【摘要】：研究了一种以甲酸、乙酸及第三种配位剂组合的三价铬电镀工艺,并对该镀液和镀层进行了性能测试。测试结果显示,该体系所得镀层外观光泽明亮,光亮电流密度范围宽(可使用的电流密度从2.5～25.0A/dm2);镀液的pH值容易控制,分散能力和覆盖能力好,可在室温下电镀,镀液性能比较稳定;通过Taf-el测试和CASS试验证明,三价铬镀铬层的耐蚀性和六价铬镀层相当。
[Abstract]:A trivalent chromium plating process with formic acid, acetic acid and third coordination agent was studied, and the properties of the bath and coating were tested. The test results show that the coating has bright appearance, bright current density range (current density can be used from 2.5 to 25.0A / dm2), and the pH value of the bath is easy to control, the dispersibility and covering ability are good, and it can be electroplated at room temperature. The results of Taf-el test and Cass test show that the corrosion resistance of trivalent chromium coating is equal to that of hexavalent chromium coating.
【作者单位】： 哈尔滨工业大学(威海)应用化学系 哈尔滨工业大学(威海)应用化学系 哈尔滨工业大学(威海)应用化学系 哈尔滨工业大学(威海)应用化学系 哈尔滨工业大学(威海)应用化学系
【分类号】：TQ153

【参考文献】

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【共引文献】

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本文编号：1964024