氯已定预处理对树脂牙本质间长期粘结力的影响

发布时间：2020-05-15 17:57

【摘要】： 研究背景： 牙本质树脂间的粘结力一直是近年来研究的热点。自酸蚀树脂水门汀因操作简便、不易引起术后敏感而得到广泛应用。但其粘结力不如全酸蚀系统,且长期粘结力下降较快,限制了自酸蚀粘结剂的应用。而微渗漏和牙本质胶原纤维降解是引起长期粘结力下降的主要因素。 目的： 为了研究氯已定预处理对保存牙本质-树脂长期粘结力的作用和釉质边缘对粘接力的影响,本研究采用两步法自酸蚀粘结剂Panavia F2.0 (PF, Kuraray Medical Inc., Tokyo, Japan)和一步法单组分自酸蚀粘结剂RelyX Unicem Aplicap (UC,3M ESPE)进行研究,通过微拉伸实验,比较不同浓度(2%和0.2%)CHX预处理和是否存在釉质边缘,对牙本质-树脂长期粘结力的影响。 方法： 1、样本制备： 1.1、牙体预备：将56颗磨牙的牙合面釉质和牙根尖1／2去除,自凝塑料包埋牙根,用600目砂纸,200r/min带水打磨牙体牙合面60秒,获得粘接平面。将56颗牙随机分为7组,每组8颗。其中3组用金刚砂车针去除外层釉质。 1.2、树脂块制备：用3M Z250光固化树脂制作56颗直径10mm,厚度为5mm的圆柱形树脂块。 2、实验分组和牙本质粘结 A组：对照组,不使用CHX预处理,不去除外层釉质,按粘结剂操作说明完成牙本质-树脂粘结后,将样本储存3天。 B组：不使用CHX预处理。其中B2组去除外层釉质。按粘结剂操作说明完成牙本质-树脂粘结后,将样本储存6个月。 C组：使用2%CHX预处理。其中C2组去除外层釉质。按粘结剂操作说明完成牙本质-树脂粘结后,将样本储存6个月。 D组：使用0.2%CHX预处理。其中D2组去除外层釉质。按粘结剂操作说明完成牙本质-树脂粘结后,将样本储存6个月。 3、微拉伸实验：用低速切片机(Buehler.USA)沿垂直于粘接面方向将样本切割为横截面积0.9x0.9mm的长条状,使用微拉伸测力仪(BIS-CO.USA)检测各组的抗拉伸力。 4、扫描电镜观察：选取每组样本中10根被拉断的牙本质部分样本其中使用PF和UR的样本各5根,干燥后喷金,进行扫描电镜观察。 5、统计学分析：用SPSS软件将各组的微拉伸力制作箱形图,并对结果进行正态分布检测、方差分析和t-检验。 结果： 1、微拉伸试验：测试结果使用SPSS16.0软件包进行正态检验和单因素方差分析(one-way ANOVA)。结果显示实验数据基本符合正态分布,其平均水平用均值±标准差(X±S)表示。单因素方差分析显示Panavia F对牙本质的粘结强度显著高于Relyx Unicem粘结剂组p0.05)；釉质边缘的保存能明显延缓牙本质-树脂粘结强度的下降(p0.05)；使用CHX对保存微拉伸力有显著的作用(p0.05),但2%和0.2%的CHX对微拉伸力没有显著影响(p0.05)。 2、扫描电镜观察： 2.1、Panavia F粘结剂： 3天组的样本牙本质面有完整的混合层覆盖,无法看见牙本质小管和胶原纤维。 B1组：(储存6个月／有釉质边缘保护／无CHX预处理)的样本的牙本质面有大量粘结剂,无法看见牙本质小管和胶原纤维。 B2组：(储存6个月／没有釉质边缘保护／无CHX预处理)的样本的牙本质面无混合层或粘结剂,牙本质胶原纤维网暴露断裂,牙本质小管内无树脂突。 C1和D1组：(储存6个月／有釉质边缘保护／2%或0.2%CHX预处理)的样本牙本质面混合层保存完好,无法看见牙本质小管和胶原纤维。 C2和D2组：(储存6个月／无釉质边缘保护／2%或0.2%CHX预处理)的样本牙本质面残留少量粘结剂,可见牙本质小管中有部分树脂突。 2.2、Relyx Unicem粘结剂 3天组的样本断裂面大部分为树脂。 B1组：(储存6个月／有釉质边缘保护／无CHX预处理)样本的牙本质面有薄层粘结剂覆盖,少量牙本质面暴露。 B2组：(储存6个月／没有釉质边缘保护／无CHX预处理)的样本的牙本质面暴露,无粘结剂残留,牙本质小管空虚,牙本质脱矿不明显。 C1和D1组：(储存6个月／有釉质边缘保护／2%或0.2%CHX预处理)的样本牙本质面有大量粘结剂覆盖,牙本质面无暴露。 C2和D2组：(储存6个月／无釉质边缘保护／2%或0.2%CHX预处理)的样本牙本质面大部分暴露,少量粘结剂残留,牙本质小管中有树脂突栓塞。 结论： 1、二步法的Panavia F粘结剂比一步法Relyx Unicem粘结剂对牙本质的粘结力大。 2、有釉质边缘保护,能减缓牙本质-树脂粘结力的下降。 3、氯己定处理能抑制牙本质胶原纤维的降解,保存长期粘结力。高浓度氯己定比低浓度氯己定对Panavia F粘结剂更有效,但对于Relyx Unicem粘结剂则无明显区别。
【图文】：

微拉伸力的箱形图

图2、扫描电镜对含有釉质边缘的使用PF粘结剂的牙本质断裂面进行扫描(a)A组(3d)SEMxZoo:可见断裂面在粘结剂层，无牙本质暴露.伪)高倍下(a)图SEMxl0000。(e)BI组(无CHX)SEMx200:断裂面在粘结剂层，无牙本质暴露。(d)高倍下(c)图:SEMx10000。(e)Cl组(2%CHX)SEMx200:断裂面在粘结剂层，无牙本质暴露。(f)高倍下(e)图:sEMxl000o。(g)nl组(o.Zo，oeHxsEMxZoo:断裂面在粘结剂层，，无牙本质暴露。(h)高倍下(g)图:sEMxl000o。
【学位授予单位】：浙江大学
【学位级别】：硕士
【学位授予年份】：2010
【分类号】：R783.5

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本文编号：2665422