磷灰石晶体在脱蛋白牙本质中微晶行为分析及对自酸蚀粘接的影响

发布时间：2020-06-20 08:20

【摘要】：第一部分：脱蛋白牙本质中磷灰石的分布及状态目的：研究NaOCl脱蛋白作用对牙本质矿物晶体相的影响,阐述与脱蛋白时间及牙本质部位异质性相关的磷灰石晶体微晶行为改变。方法：收集因正畸拔除的上颌第一前磨牙,分别制备冠部横切和纵切两种牙本质样本,暴露的牙本质横切面及纵切面经打磨抛光后用于研究。用5.25%NaOCl溶液处理牙本质面进行牙本质脱蛋白,经不同时间脱蛋白处理后,牙本质面分别用傅里叶变换红外光谱仪(ATR-FTIR)、X线微区衍射仪、原子力扫描显微镜(AFM)、微硬度测试仪分别检测牙本质脱蛋白程度、磷灰石晶体微晶特性与分布、牙本质表面纳米级形貌改变以及机械性能的变化。相关统计分析用SPSS16.0(SPSS, Chicago, IL, USA)进行。结果：ATR-FTIR检测结果显示牙本质脱蛋白具有时间依赖性,在用5.25%NaOCl脱蛋白30-180min时间内形成平台期,在此时间内牙本质面红外监测下显示出有机相-无机相的相对稳定性,牙本质表面有机相消融,逐步向无机相转换,提供了便于进行矿物分析的表面。X线微区衍射结果提示磷灰石微晶的结晶度、平均晶体尺寸及择优取向受脱蛋白作用影响,磷灰石微晶行为特性与牙本质面类型以及脱蛋白时间相关。AFM显示牙本质脱蛋白作用下,典型的牙本质小管结构消失,表面粗糙度增加,相位图显示与红外规律一致的有机-无机相转换。牙本质脱蛋白后微硬度下降,其下降趋势与脱蛋白时间呈立方回归关系。结论：NaOCl脱蛋白作用导致牙本质有机-无机相转换,牙本质结构的异质性以及脱蛋白作用对磷灰石晶体微晶行为有影响。第二部分脱蛋白牙本质对自酸蚀粘接剂粘接效果的影响目的：研究脱蛋白牙本质对含功能性单体的自酸蚀粘接剂粘接效果的影响。方法：25颗新鲜离体磨牙去冠部釉质,分配到空白对照组和次氯酸钠处理组(5.25%NaOCl处理60s)。用三种自酸蚀粘接剂G-Bond(含4-MET单体),,Clearfil S3Bond(含10-MDP单体),Xeno-V (不含功能性单体)进行粘接制样。红外光谱表征功能性单体与牙本质粘附能力,X射线衍射检测化学结合作用,微拉伸测试评价粘接力强度。统计分析用SPSS16.0(SPSS, Chicago, IL, USA)进行。结果：各粘接剂红外1718cm-1处峰值强度均降低,其中G-Bond组降低最多,而Xeno-V组最少。Clearfil S3Bond组XRD谱显示20为2.5°,4.8°和7.1°时与10-MDP钙盐相匹配的特征峰。G-bond和Xeno-V粘接样本未见化学结合作用的新峰。进行脱蛋白处理后牙本质粘接时,G-Bond及Clearfil对老化前后脱蛋白牙本质粘接力下降无显著性差异,Xeno V对脱蛋白适用性最差,粘接力下降最为明显。结论：牙本质脱蛋白对粘接效果有不利影响,应用含功能性单体成分的自酸蚀粘接剂可以与脱蛋白牙本质形成更好的即刻和耐久性粘接效果。第三部分：含8%精氨酸-碳酸钙的脱敏膏对自酸蚀粘接剂与牙本质间微拉伸强度的影响目的：评价含8%精氨酸-碳酸钙的脱敏膏进行抛光处理对开放牙本质小管的封闭作用,以及对两种自酸蚀粘接剂的粘接效果的影响。方法：选用两种自酸蚀粘接剂进行研究。收集因正畸原因拔除的完整无龋的前磨牙,所有牙齿均在3个月内应用。去除合面釉质,制备牙本质片并逐级湿打磨抛光。用1%柠檬酸酸蚀牙本质表面20s,模拟临床牙本质过敏的情况,制备开放牙本质小管的术后敏感模型。所有样本分为五组。A组：对照组,样本经酸蚀后不错抛光处理；B组：Si02抛光组,样本酸蚀处理后用Si02抛光粉抛光30s。C组,D组和E组为试验组,分别用含8%精氨酸-碳酸钙的脱敏膏抛光处理不同时间。C组：脱敏抛光膏抛光两次,每次3s,共计6s；D组：脱敏抛光膏抛光两次,每次9s,共计18s；E组：脱敏抛光膏抛光两次,每次15s,共计30s。选择一步法自酸蚀粘接剂(G-Bond, GC, Japan)与两步法自酸蚀粘接剂(Fl-Bond II, Shofu, Japan)进行粘接,然后制备微拉伸样本,检测微拉伸强度。SEM用于评价含8%精氨酸-碳酸钙的脱敏膏封闭开放牙本质效果。统计分析用SPSS16.0(SPSS, Chicago, IL, USA)进行。结果：SEM结果显示含8%精氨酸-碳酸钙脱敏膏可以有效封闭开放的牙本质小管,根据牙本质敏感的“流体动力学说”,该脱敏膏可预防术后敏感的发生。考虑的临床应用的便捷及脱敏效果,推荐临床应用此脱敏膏时抛光18s为佳。作为粘接修复的预处理措施,对含有功能性单体的G-bond(含4-MET单体)的粘接效果没有不利的影响。结论：含8%精氨酸-碳酸钙脱敏膏可有效封闭开放的牙本质小管,同时未对自酸蚀粘接剂的微拉伸强度有不利影响。
【学位授予单位】：武汉大学
【学位级别】：博士
【学位授予年份】：2012
【分类号】：R783.3

【参考文献】