种植体表面菌斑去污方式的体外研究进展

发布时间：2021-07-04 02:39

　　种植体周围炎是指发生在植体周与菌斑相关的病理状态,以植体周黏膜炎症和进行性支持骨组织丧失为特征,已成为引起种植失败的主要原因之一。种植体表面去污是治疗该疾病的关键。目前研究的去污手段包括手工刮治、超声洁治、常压等离子体、激光、空气喷砂等物理方法,以及生理盐水、双氧水、氯己定、枸橼酸、光动力疗法等化学药物方法。物理方法侧重于对异物的清除作用,而化学方法则主要起到杀灭微生物的作用。在实际临床工作中,通常联用物理和化学去污手段以实现疗效的最大化。本文就目前关于种植体表面菌斑去污方式的体外研究进展作一综述。 

【文章来源】：国际口腔医学杂志. 2020,47(05)CSCD

【文章页数】：6 页

【文章目录】：
1 种植体周围炎的病因和治疗方式
2 种植体表面菌斑去污方式的体外研究
    2.1 物理去污研究
        2.1.1 常压等离子体
        2.1.2 激光
        2.1.3 空气喷砂
    2.2 化学去污研究
        2.2.1 传统的化学药物
        2.2.2 新型的化学药物
    2.3 物理化学联合去污研究
3 展望


【参考文献】：
期刊论文
[1]种植体周围疾病发病率及危险因素的研究[J]. 李维婷,朴牧子,李慧,张毅,周卉,胡洪成,唐志辉,李蓬.  口腔医学研究. 2017(07)



本文编号：3263858