渗氮类金刚石膜应用于齿科纯钛的实验研究

发布时间：2021-09-25 02:16

　　纯钛作为理想的义齿支架材料已经广泛应用于口腔修复领域。但铸造后表面易产生气孔,耐磨性差,易被氟化物腐蚀并析出离子,这些缺点需要通过表面改性来解决。类金刚石膜（DLC）作为新兴工业材料已得到广泛应用。但在口腔修复中应用较少,原因是韧性不足,颜色单一,与金属基底结合力差。本课题拟通过研制纳米渗氮类金刚石复合膜以及寻找最佳镀膜工艺参数来改善义齿钛支架的性能,使其达到口腔修复临床应用的要求。实验方法是:1.采用脉冲真空多弧等离子体镀膜技术制备渗氮含氢非晶碳膜,在N2气氛中预处理纯钛表面形成TiN梯度膜,再采用甲烷与氮气混合沉积类金刚石薄膜;2.对比已有的纯钛表面修饰方法（TiN、阳极氧化）采用磨耗试验机测试DLC薄膜的摩擦性;用能谱分析和扫描电镜观察DLC薄膜的表面成分与形态;润湿角测量仪检测薄膜的润湿性;细菌黏附试验对比DLC薄膜黏附白色念珠菌的数量;改变沉积时间观察DLC薄膜表面颜色变化;细胞毒性实验测试DLC薄膜的生物安全性。3.临床观察渗氮类金刚石薄膜应用效果。主要实验结果如下:1类金刚石薄膜工艺参数的确定⑴①脉冲真空电弧离子源的镀膜均匀性随主回路电压减小而变好。主回路电压越小,膜厚分... 

【文章来源】：中国人民解放军空军军医大学陕西省 211工程院校

【文章页数】：128 页

【学位级别】：博士

【部分图文】：

碳元素的同素异构体对于类金刚石碳膜，至今尚无非常精确的定义和完全的统一概念，从组成成分来看，由于其成膜的碳原子的载体不尽一致，有含氢的，不含氢；从

图 2 脉冲真空电弧离子镀工作设备示意图冲真空电弧离子源利用脉冲真空电弧离子镀制备类金刚石薄膜，其台脉冲真空电弧离子源，脉冲真空电弧离子源主要由阴极、阳极、三部分组成（见图 2）。阴极由被蒸发的材料制成，脉冲真空电弧离门制作一个阳极，也可以把真空室或基片夹作阳极。脉冲真空电弧理基于冷阴极真空电弧放电，真空电弧可理解为封闭容器中的强电脉冲真空电弧离子源产生的真空电弧放电使阴极材料蒸发并电离，子体束流，这些等离子体一方面在基片（工件）上形成膜层，另一电弧放电。冷阴极真空电弧放电的电子发射机理主要是场致电子场致电子发射需要在阴极表面建立很强的电场，因此，仅靠脉冲真子源的阴极和阳极之间的电位差是不够的，故需要引弧，引弧的方三种：①喷气引弧法。向阴极表面喷射气体，形成涡流，造成局部当阴极前的气压满足点燃条件，首先产生辉光放电，然后转为弧光

第四军医大学博士学位论文主电极之间产生小电流放电，然后在两个主电极之间加上不很高的气体击穿形成电弧。③接触短路引弧法。用与阳极等电位的金属触极接触短路，在触头刚分离的瞬间，电流将收缩到触头刚分离的某一数点上，表现出电阻的剧烈增大和温度迅速提高，直至发生金属的蒸发形成极高的电场强度，这样就会导致强烈的场致发射和间隙的击穿，成了真空电弧。


本文编号：3408891