镶嵌纳米晶硅的氧化硅薄膜微观结构调整及其光吸收特性

发布时间：2017-11-16 22:01

  本文关键词：镶嵌纳米晶硅的氧化硅薄膜微观结构调整及其光吸收特性

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【摘要】：采用等离子体化学气相沉积(PECVD)技术在不同N_2O流量条件下制备了镶嵌有纳米晶硅(nc-Si)的富硅氧化硅(SiOx)薄膜,利用透射电镜(TEM),X射线衍射分析(XRD),傅里叶变换红外(FTIR)和透射光谱技术研究了薄膜中的氢含量和氧含量变化及其对薄膜晶化度、薄膜键合结构和光吸收特性的影响。结果表明,薄膜由nc-Si粒子和非晶SiOx组成,为混合相结构。nc-Si的生长与氧化反应的竞争决定了薄膜微观结构、键合特性以及光吸收特性。随着N_2O流量的增加,薄膜的晶粒尺寸逐渐减小。晶界区过渡晶硅的比例减少,晶粒界面随之消失,带隙呈持续增加趋势。该实验结果为ncSi/SiOx薄膜在新型太阳电池中的应用提供了基础数据。
【作者单位】： 乐山职业技术学院;华北电力大学数理系;
【基金】：国家自然基金资助项目(2014MS167) 中央高校基金资助项目(2014MS167) 乐山职业技术学院院级课题资助项目(9KY2014034)
【分类号】：TM914.4;TB383.2
【正文快照】： 1引言近年来的研究表明,镶嵌纳米晶硅的氧化硅薄膜(nc-Si/SiOx)作为一种混合相结构的材料,具有良好的稳定性和光电特性,在新型太阳能电池中具有广阔的应用前景[1-2]。硅纳米晶体(nc-Si)作为一种纳米半导体材料,当它的尺寸小于体硅材料的激子波尔半径时会呈现与体硅材料不同的

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本文编号：1193782