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Ni80Cr20合金薄膜制备影响因素的试验研究

发布时间:2018-04-19 05:38

  本文选题:直流磁控溅射 + 镍铬薄膜 ; 参考:《工具技术》2017年07期


【摘要】:利用直流磁控溅射的方法制备Ni80Cr20合金薄膜,以氩气流量、氩气工作压强、溅射功率作为三因素进行正交试验,在溅射时间相同的条件下分别测试了薄膜厚度、表面粗糙度、电阻率并进行了极差分析。分析结果表明:在一定范围内,氩气工作压强与溅射功率对薄膜厚度的影响较大;在氩气工作压强为3.0Pa时,薄膜厚度与溅射功率近似成正比关系;随着氩气流量的增大,Ni80Cr20薄膜厚度呈现先增大后减小的趋势;在氩气流量为50cm~3/min时,薄膜厚度达到最大值;各因素对薄膜表面粗糙度及电阻率影响不明显。
[Abstract]:Ni80Cr20 alloy thin films were prepared by DC magnetron sputtering. The thickness and surface roughness of Ni80Cr20 alloy films were measured under the same sputtering time, using argon flow rate, argon working pressure and sputtering power as three factors.The resistivity is also analyzed.The results show that the ar working pressure and sputtering power have great influence on the film thickness in a certain range, and the film thickness is approximately proportional to the sputtering power when the argon working pressure is 3.0Pa.With the increase of argon flow rate, the thickness of Ni80Cr20 film increases first and then decreases. When argon flow rate is 50cm~3/min, the thickness of Ni80Cr20 film reaches the maximum value, and the influence of various factors on the surface roughness and resistivity of the film is not obvious.
【作者单位】: 中北大学;
【基金】:山西省国际科技合作项目(2015081018)
【分类号】:TB383.2;TG146.15

【参考文献】

相关期刊论文 前2条

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【共引文献】

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【二级参考文献】

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本文编号:1771842

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