磁控溅射参数对Al薄膜微观结构及红外特性的影响研究

发布时间：2018-12-30 21:44

【摘要】：利用磁控溅射法在Si(100)基片上制备了Al薄膜,采用X射线衍射、扫描电镜、扫描探针显微镜和红外光谱仪研究了基片温度、溅射功率和溅射时间对Al薄膜表面、断面形貌和红外反射率的影响。结果表明:随着基片温度的升高,Al颗粒的尺寸变大,由均匀细颗粒变为不规则形状,并逐渐熔为一个整体,断面形貌变得凹凸不平,表面粗糙度增大,红外反射率呈下降的趋势;随着溅射功率的增大,Al薄膜致密平整,表面粗糙度增大,红外反射率先增大后不变;随着溅射时间的延长,Al薄膜表面粗糙度增大,红外反射率先增大后不变。
[Abstract]:Al thin films were prepared on Si (100) substrates by magnetron sputtering. The effects of substrate temperature, sputtering power and sputtering time on the surface of Al thin films were investigated by X-ray diffraction, scanning electron microscope, scanning probe microscope and infrared spectrometer. The effect of cross section morphology and infrared reflectivity. The results show that with the increase of substrate temperature, the size of Al particles becomes larger, from uniform fine particles to irregular shapes, and gradually melts into a whole, and the surface roughness increases with the increase of surface roughness. Infrared reflectance showed a decreasing trend; With the increase of sputtering power, the Al film is compact and smooth, the surface roughness increases, and the infrared reflection increases first and then unchanged. With the increase of sputtering time, the surface roughness of Al film increases, and the infrared reflection increases first and then unchanged.
【作者单位】： 国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料重点实验室;
【基金】：国家自然科学基金(51502344)
【分类号】：TB383.2

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本文编号：2396195