红荧烯薄膜生长及稳定性的研究

发布时间：2019-02-16 05:10

【摘要】：利用原子力显微镜研究了二氧化硅衬底上红荧烯薄膜的生长及稳定性。在较低沉积速率下,较低衬底温度时,红荧烯分子有充足的扩散时间,利于薄膜的横向生长,形成连续性、均匀性较好的薄膜。快速蒸镀及较高衬底温度使红荧烯薄膜转变为纵向生长模式,形成团粒状岛。横向生长的红荧烯薄膜在退火和空气中表现为亚稳特性,随着退火温度的升高和空气中放置时间的延长,红荧烯分子会自发地进行质量传输,发生纵向转移,转变为团粒状岛。获得了二氧化硅界面上红荧烯薄膜的生长及亚稳定机制模型。研究结果证明红荧烯分子与二氧化硅界面之间的作用力小于红荧烯分子间的作用力。
[Abstract]:The growth and stability of red fluorene films on silicon dioxide substrates were investigated by atomic force microscopy (AFM). At lower deposition rate and lower substrate temperature, the red fluorene molecule has sufficient diffusion time, which is conducive to the transverse growth of the film, forming continuity and good uniformity. Rapid evaporation and high substrate temperature change the red fluorene film into a longitudinal growth mode and form a granular island. The laterally grown red fluorene films exhibit metastable properties in annealing and air. With the increase of annealing temperature and the prolongation of the time of storage in air, the red fluorene molecules will spontaneously transport mass, transfer longitudinally, and turn into granular islands. The growth and metastable mechanism of red fluorene film on silica interface were obtained. The results show that the interaction force between red fluorene and silica is smaller than that between red fluorene and silica.
【作者单位】： 长春工业大学化学工程学院;长春理工大学光电工程学院;吉林省产品质量监督检验院;
【基金】：国家自然科学基金(21403016) 吉林省教育厅项目(2016326,2015174)资助~~
【分类号】：O484.1

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本文编号：2424082