多弧离子镀制备（Ti,Cr）N纳米复合膜的研究进展

发布时间：2021-06-09 10:45

　　文章通过调研国内外多弧离子镀制备（Ti,Cr）N纳米复合膜的研究,分析了偏压、弧电流等制备参数对薄膜机械性能的影响。调研发现:在TiN薄膜中引入Cr元素后,有效地提升了薄膜的机械性能;而偏压和弧电流在多弧离子镀制备（Ti,Cr）N的过程中,对成膜性质有很重要的作用。从理论原理来看,偏压提供了加速离子所需的能量,弧电流则是弧光放电的基础。它们的共同特征是数值增大会给离子带来更多的能量,加剧离子对衬底的撞击,从而提高膜基结合力和薄膜硬度。不过因为作用机理的不同,它们对薄膜的影响也不都是正面的,比如偏压较大时会降低薄膜的厚度和沉积速率,而弧电流过大则会增加大液滴的形成概率。因此,在多弧离子镀制备（Ti,Cr）N薄膜的过程中,应该在综合评估各实验参数的影响后进行优化,从而提高薄膜机械性能。 

【文章来源】：科技智囊. 2020,(10)

【文章页数】：4 页

【文章目录】：
一、前言
二、制备工艺对膜层的影响
    （一）偏压对膜层的影响
    （二）弧电流对膜层的影响
三、结论


【参考文献】：
期刊论文
[1]多弧离子镀（Ti,Cr）N镀层耐蚀性研究[J]. 郭巧琴,李建平,郭永春,杨忠.  电镀与精饰. 2017(08)
[2]脉冲偏压占空比和放置状态对大颗粒分布规律的影响[J]. 魏永强,刘建伟,文振华,蒋志强,田修波.  热加工工艺. 2015(04)
[3]负偏压对多弧离子镀制备的（Ti,Cr）N膜的影响[J]. 付志强,王成彪,李金丽,于翔,彭志坚.  稀有金属材料与工程. 2010(S1)
[4]LY12铝合金表面多弧离子镀（Ti,Cr）N膜[J]. 周兰英,李晋珩,郎平.  北京理工大学学报. 2004(04)
[5]电弧离子镀（Ti,Cr）N硬质薄膜的成分、结构与硬度[J]. 陈军,林国强,陈静,韦江,王富岗.  大连理工大学学报. 2002(05)
[6]离子镀膜中的弧电流对膜层质量的影响[J]. 吴玉广,陈福砦.  真空科学与技术. 1999(05)

硕士论文
[1](Ti，Cr)N薄膜的多弧离子镀工艺、显微结构及力学性能研究[D]. 李金丽.中国地质大学（北京） 2006



本文编号：3220438