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WO 3 /MoO 3 复合薄膜的光电性能研究

发布时间:2021-08-31 22:26
  如今随着科技的发展,具有光电性能的材料已经成为研究的热点。并且在众多领域(传感器、智能床、污水降解、半导体、太阳能电池等)上有了很快的发展和应用。光电材料的性能可以从电致变色可逆性、响应时间、着色效率、光谱透过率、光电流和光电催化等方面来判断。为了制备出具有良好光电性能的材料,本论文以WO3纳米块薄膜、MoO3纳米薄膜和WO3/MoO3复合薄膜材料为主要研究对象。研究内容如下:以导电玻璃(FTO)为基底采用水热法制备了WO3纳米块薄膜。利用X射线衍射和扫描电子显微镜对WO3纳米块进行表征。利用电化学测试、光谱测试、光电流测试和光电催化测试方法,获得WO3纳米块薄膜的电致变色可逆性、响应时间、着色效率、光谱透过率、光电流和光电催化等参数,并对其进行详细分析。制备WO3纳米块薄膜时水热溶液的不同PH值对其光电性能的影响,发现PH值为1.5的WO3纳米块薄膜具有最佳的电致变色可逆性、响应时间、着色效率、光谱透过率、光电... 

【文章来源】:长春理工大学吉林省

【文章页数】:68 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

WO 3 /MoO 3 复合薄膜的光电性能研究


无机电致变色材料在元素周期表中的分布

X射线衍射图,纳米,X射线衍射图,衍射峰


长为 665 nm。WO3纳米块为工作电极,铂网为对电论块的表征与分析 射线衍射和扫描电子显微镜对 WO3纳米块薄膜的表并得出相关结论。衍射测试分析 值为 1.5 的 WO3纳米块的 X 射线衍射图谱。图中以的 WO3纳米块的衍射峰,WO3纳米块的衍射峰(2 5.2°,61.1°)处,可表示为立方相 WO3晶体结构(JCP功制备出立方相的 WO3纳米块[99]。由于 WO3纳米块中也显示了 FTO 的衍射峰。

纳米,顶端,阵列,覆盖性


扫描电子显微镜测试分析究 WO3薄膜的表面形貌,采用扫描电子显微镜对样品进行了a-c)是 PH 值分别为 0.5、1.5 和 2.5 的 WO3纳米块顶端扫描图,随着 PH 值由 0.5 到 1.5 的改变,图(b)生长的 WO3纳米块,覆盖性变好。而 PH 值由 1.5 增加到 2.5 时,图(c)生长的基底不牢固,产生脱落,使得薄膜变得不致密,覆盖性变差。

【参考文献】:
期刊论文
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硕士论文
[1]WO3/MoO3-SnO2催化氧化二甲醚制备甲酸甲酯的性能研究[D]. 徐瑶.哈尔滨师范大学 2016
[2]氧化钨基电致变色材料可控制备及其性能改善[D]. 周鼎.浙江大学 2016
[3]三氧化钨基光电极的制备及其光电化学性能研究[D]. 刘丽英.浙江大学 2013



本文编号:3375731

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