磁控溅射制备高透明导电Ag膜及SnO 2 /Ag/SnO 2 复合膜的研究

发布时间：2022-12-25 17:40

　　基于超薄金属膜的TCO/M/TCO三层膜具有较好的透明导电性能,是光电材料领域的研究热点。研究表明,中间金属层对三层膜的透明导电性能的影响显著。因此,本文首先在两种沉积速率（0.065 nm/s和0.75 nm/s）和沉积气氛（Ar、Ar+H₂和Ar+N₂）下制备了一系列不同厚度的Ag膜;系统研究了沉积速率和沉积气氛对Ag膜结构、表面粗糙度及透明导电性能的影响。随后在对单层Ag膜研究的基础上,制备了SnO₂/Ag/SnO₂三层膜,探讨Ag层的沉积速率和沉积气氛对三层膜透明导电性能的影响。得到主要结果如下:（1）高沉积速率下制备的Ag膜晶粒尺寸大,结晶性强且表面粗糙度小。与低沉积速率下制备的Ag膜相比,高沉积速率下制备的Ag膜具有更好的导电性能,并且在膜厚较低时也具有更好的透光性,但是当Ag膜厚度较大时,其透光率更低。与在纯Ar气氛下制备的Ag膜相比,在Ar+H₂气氛下制备得到的Ag膜具有更大的晶粒尺寸和粗糙的表面;在Ar+N₂气氛下制备得到的Ag膜表面更光... 

【文章页数】：87 页

【学位级别】：硕士

【部分图文】：

霍尔效应原理图

【参考文献】：
期刊论文
[1]射频反应磁控溅射制备的SnO2及SnO2:F薄膜结构与透明导电性能[J]. 杨玉婷,祝柏林,谢挺,张俊峰,吴隽,甘章华,刘静.  硅酸盐学报. 2017(04)
[2]ITO透明导电薄膜的制备方法及研究进展[J]. 江自然.  材料开发与应用. 2010(04)
[3]玻璃基Ag膜层厚度与其表面形貌和性能的关系[J]. 赵青南,马鸣明,董玉红,汪振东,赵修建,高必新.  武汉理工大学学报. 2009(04)



本文编号：3727062