溅射时间对GZO薄膜光电性能的影响

发布时间：2017-07-16 10:06

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【摘要】：采用射频磁控溅射法在普通玻璃衬底上制备了Ga_2O_3含量为3wt.%的掺镓氧化锌透明导电薄膜(GZO)。通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、四探针测试仪、台阶仪、UV-Vis-NIR3600型紫外-可见分光光度计研究了溅射时间对薄膜结构、表面形貌及光电性能的影响。结果表明,溅射时间为40 min时制备的GZO薄膜的光电综合性能最好,可见光区透过率峰值86%,方阻为16.4Ω/□,电阻率为1.18×10-3Ω·cm,性能指数ΦTC为4.73×10~(-3)Ω-1;随着溅射时间增加,薄膜光学带系从3.69 e V减少到3.56 e V。在溅射时间60 min时结晶度最高,方块电阻为9.0Ω/□,电阻率最低为9.7×10-4Ω·cm,可见光透过率峰值为81%。
【作者单位】： 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室;江苏秀强玻璃工艺股份有限公司;
【关键词】： GZO薄膜 溅射时间 光电性能 射频磁控溅射
【基金】：湖北省重大科技创新计划项目(2013AAA005)
【分类号】：TB383.2
【正文快照】： 1引言透明导电氧化物(TCO)薄膜具有良好的导电性和高的可见光区透过率,在许多领域有着非常广阔的应用,如液晶显示、触摸屏、薄膜太阳能电池等。TCO还具有在近红外区高反射、紫外区高吸收及对微波衰减性较强等特点,故常应用于红外隐身材料、建筑玻璃隔热膜、电磁屏蔽和防静电膜

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本文编号：548139