基于玻璃基底的透明导电金膜的光学性质

发布时间：2017-09-07 02:04

  本文关键词：基于玻璃基底的透明导电金膜的光学性质

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【摘要】：采用直流溅射法,通过调节溅射时间和溅射电流,在玻璃基底上成功制备出不同厚度的透明导电金膜.通过椭圆偏振仪测量了透明导电金膜的厚度及其对可见光的透过率,利用四探针、扫描电子显微镜分别测量和表征了透明导电金膜的方块电阻和表面形貌.研究结果表明,随着透明导电金膜厚度的增加,方块电阻减小,金膜表面连续性变好,且透明导电金膜厚度为10~13nm时,透明导电金膜的导电性和透过性的兼顾最佳.通过实际中透明导电金膜厚度随溅射条件的变化,结合理论膜厚计算公式可知,直流溅射沉积透明导电金膜为岛状生长模式.使用椭圆偏振仪测量了不同入射角度和入射方向上透明导电金薄膜的椭偏参量,发现在各向同性的玻璃基底上生长的透明导电金膜的光学性质表现为各向异性.
【作者单位】： 东华大学理学院;
【关键词】： 直流溅射 透明导电金膜 椭圆偏振仪 岛状生长模式
【基金】：国家自然科学基金青年科学基金资助项目(11305035)
【分类号】：TB383.2
【正文快照】： 透明导电薄膜是一种对可见光(λ=400~760 nm)的平均光透射率高(Tavg80%)且电阻率低(ρ10-3Ω·cm)的光电特性薄膜[1].自1907年利用镉(Cd)制备出氧化镉(CdO)透明导电薄膜[2]以来,透明导电薄膜的研究备受重视.目前,透明导电薄膜主要包括金属系、氧化物膜系、非氧化化合物膜系

【相似文献】

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1 李家亮;姜洪义;牛金叶;邹科;;透明导电氧化物薄膜的研究现状及展望[J];现代技术陶瓷;2006年01期

2 郑世沛;玻璃表面SnO_2透明导电涂层工艺的专利述评[J];材料导报;1991年08期

3 王振国,蔡s，

本文编号：806758