基于压阻式加速度计的金属掩膜层图形化

发布时间：2018-08-21 10:10

【摘要】：干法刻蚀是压阻式加速度传感器制备中的关键工艺,金属掩膜层的图形化对刻蚀结果尤为重要。金属掩膜层图形化的效果影响着压敏电阻条的刻蚀效果,进而影响传感器性能。利用磁控溅射在Si和SiC衬底上分别溅射金属Al和Ni作为金属掩膜层,并对二者的图形化效果进行对比,同时借助激光共聚焦扫描显微镜(CLSM)观察分析金属腐蚀速率、图形化后结构的形貌、线宽损失等参数。实验证明:对于小结构(线宽小于50μm)而言,金属Al由于致密性不好,图形化后的结构模糊不规则;金属Ni作为掩膜层图形化后的结构形貌清晰、形状规则、线宽损失小。
[Abstract]:Dry etching is a key process in the fabrication of piezoresistive accelerometers. The graphic effect of metal mask affects the etching effect of varistor strip, and then affects the performance of sensor. The metal Al and Ni were deposited on Si and SiC substrates respectively by magnetron sputtering, and their graphic effects were compared. At the same time, the corrosion rate of metals was observed and analyzed by confocal scanning microscope (CLSM). The morphologies, linewidth loss and other parameters of the graphical structure. The experimental results show that for the small structure (linewidth less than 50 渭 m), the structure of Al is fuzzy and irregular due to its poor densification, and the shape of Ni as the mask is clear, the shape is regular and the loss of linewidth is small.
【作者单位】： 中北大学电子测试技术重点实验室;中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室;
【分类号】：TN305.7

【参考文献】

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【共引文献】

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【二级参考文献】

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本文编号：2195377