一种新型GaAs基无漏结隧穿场效应晶体管
本文关键词:一种新型GaAs基无漏结隧穿场效应晶体管
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【摘要】:针对隧穿场效应晶体管开态电流较低的问题,提出了一种新型GaAs基无漏结隧穿场效应晶体管结构,并对其性能进行了研究。在该结构中,沟道和漏区采用具有相同掺杂浓度的N型InGaAs材料,实现沟道/漏区无结化,简化了制造工艺;同时为了提高开态隧穿电流,源区采用不同于沟道的P型GaAsSb材料,实现异质源区/沟道结构。该结构能有效增大关态隧穿势垒宽度,降低泄漏电流,同时增加开态带带隧穿概率,提升开态电流,从而获得低亚阈值斜率和高开关比。仿真结果表明,在0.4V工作电压下,该新型GaAs基无漏结隧穿场效应晶体管的开态电流为3.66mA,关态电流为4.35×10~(-13) A,开关电流比高达10~(10),平均亚阈值斜率为27mV/dec,漏致势垒降低效应值为126。
【作者单位】: 西安交通大学软件学院;西安交通大学电子与信息工程学院;
【关键词】: 隧穿 场效应晶体管 平均亚阈值斜率 隧穿势垒
【基金】:国家自然科学基金资助项目(611760380)
【分类号】:TN386
【正文快照】: 随着集成电路特征尺寸的继续减小,目前广泛应用的金属氧化物半导体场效应晶体管(MOS-FET)将面临更加严峻的挑战,如短沟效应加剧、泄漏电流增大、开关电流比降低等[1]。隧穿场效应晶体管(TFET)具有较好的亚阈值特性和较小的泄漏电流,是有效解决以上问题的一种新型器件。不同于M
【参考文献】
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,本文编号:596623
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