空间辐照模拟环境对消杂光热控涂层性能的影响

发布时间：2021-03-24 02:41

　　目的研究空间辐照环境对SCB-1消杂光热控涂层性能的影响。方法采用剂量为5000 ESH的真空-紫外辐照、总注量为2.5×1015p/cm2的真空-质子辐照、总注量为2.5×1016e/cm2的真空-电子辐照以及2.0×1021 atoms/cm2的原子氧辐照,分别对SCB-1型消杂光热控涂层进行模拟空间环境试验,分析空间辐照试验前后涂层太阳吸收比αS与半球发射率εH的变化,并通过X-射线光电子能谱（XPS）检测涂层表面元素状态变化,从而判断SCB-1涂层耐空间各项辐照因素的稳定性。结果经真空-紫外辐照后,SCB-1涂层全波段αS下降了0.007～0.009,400～1100 nmαS下降了0.008～0.010;经原子氧作用后,SCB-1涂层全波段与400～1100 nmαS均下降了0.006～0.009;经真空-质子辐照后,全波段αS下降了0.004～0.005,400～1100 nmαS下降了0.005;经真空-电子辐照后,吸收比无明显变化。以上辐照过程中,SCB-1涂层的半球辐射率均无明显变化。结论经历空间模拟辐照试验,SCB-1消杂光热控涂层展现出了极佳的抗空间辐照稳定性,可... 

【文章来源】：表面技术. 2020,49(12)北大核心EICSCD

【文章页数】：8 页

【部分图文】：

真空-紫外辐照设备与试片摆放状态

原子氧设备与试片摆放状态

图2 原子氧设备与试片摆放状态涂层太阳吸收比αS依据GJB 2502.02—2015检测；涂层半球发射率εH依据GJB 2502.03—2015检测。XPS能谱采用ULVAC-PHI公司PHI Quantera SXM设备进行检测，检测方法依据GB/T 19500—2004《X射线光电子能谱分析方法通则》，设备采用Al Kα射线为激发源，光子能量为1253.6 e V，线宽为0.85 e V，溅射条件为扫描型Ar+枪，标样为热氧化Si O2/Si。

【参考文献】：
期刊论文
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硕士论文
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本文编号：3096898