半绝缘砷化镓抛光片生产中含砷废水的处理方案与效能研究

发布时间：2021-07-11 04:48

　　随着经济的快速发展,我国水污染事件呈现愈演愈烈的态势。特别是对于产生含有重金属离子废水的企业,一旦废水不能达标排放,就会对地表水体水质产生不可逆的不良影响。本文以某材料有限公司半绝缘砷化镓抛光片生产中产生的含砷废水为研究对象,在对现有含砷废水处理系统调查分析的基础上,对于含砷废水处理工艺进行了深入研究,以期待生产废水能够稳定达标排放。首先,对于对该企业生产工艺的分析,识别出产生生产废水的主要节点,发现含砷废水来源主要为有多晶清洗（W1）、单晶清洗（W2）、晶体加工（W3）、晶片导角（W4）、平面磨床和内圆锯废水（W5）、抛光清洗废水（W6）、酸雾洗涤废水（W7）,总产水量为17吨/小时。同时,对于企业现有生产废水处理工艺进行系统分析,进而辨识出现有处理工艺存在的问题。调查中发现由于切磨废水预沉池的处理效果很差,经常出现总砷浓度不能有效降至50mg/L的现象,导致进入到处理系统中总砷离子浓度超过系统要求的进水浓度,进而导致废水处理系统出水出现超标,超标倍数可达五倍。为使含砷生产废水可以正常达标排放,提出了两套升级改造方案,分别为方案一“多种药剂多次投加除砷+过滤器/反渗透系统除盐废水处理... 

【文章来源】：哈尔滨工业大学黑龙江省 211工程院校 985工程院校

【文章页数】：73 页

【学位级别】：硕士

【部分图文】：

课题研究的技术路线

砷化镓产品生产工艺及排污分析图

整度及表面进行精细加工。本工序使用的化学品为：无水乙醇（用于晶片的脱水）。本工序排放的固体废物为 S12乙醇废液。(10)晶片清洗 主要目的为去除前道工序加工后晶片表面残留的尘埃及化学残留物，再对晶片表面进行钝化处理。本工序使用的化学品为：氢氧化铵（用于配制晶片腐蚀液）。本工序排放的废水主要为 W6抛光清洗废水；固体废物为 S9废碱。从工艺流程以及产污环节的分析可以看出：砷化镓生产过程中，有含砷废水和固废产生。对于本研究关注的砷元素，其可能的去向为水环境以及土壤环境（详见图 3-1）。为此，有必要对含砷废水的来源做出详细分析。3.3.2 含砷废水来源与排污分析工程需要原料砷 21909 千克/年，其中进入砷化镓产品中砷 16121 千克/年，进入废渣、废料中的固废砷 3208 千克/年，进入废水系统砷 2553 千克/年（包括污泥中砷 2502 千克/年、结晶砷 51 千克/年），进入大气砷化镓尘 27 千克/年。重金属砷化镓尘 0.027 吨/年已经由大庆市环境保护局出具总量意见。经分析公司晶片生产过程砷平衡见图 3-2。

【参考文献】：
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本文编号：3277369