化学镀锡工艺参数对沉积速率镀层厚度及表面形貌的影响.pdf
本文关键词:化学镀锡工艺参数对沉积速率、镀层厚度及表面形貌的影响,由笔耕文化传播整理发布。
《 移 , 化学镀锡工艺参数对沉积速率、镀层厚度及表面形貌的影响 徐 磊 。何捍卫 ,周科朝 ,刘洪江 中南大学 粉末冶金国家重点实验室,湖南 长沙 410083 [摘 要] 目前,铜基或铁基上化学镀锡存在连续性差、沉积速率慢等问题,为实现连续化学镀锡,提高 沉积速率,设计了一种新的化学镀锡工艺,考察了化学镀锡主要工艺参数 镀液主成分、pH值、温度、施镀时 间 对镀层表面形貌及厚度的影响。结果表明,最佳工艺参数为:20.0―25.0g/L氯化亚锡,70.0~75.Og/L 次亚磷酸钠 ,70.0~75.0g/L硫脲 ,75.0~80.0g/L硫酸,5.0~8.0g/L甲基磺酸,5.0~8.0 LEDTA,2.0~ 4.O L对苯二酚,10.0~15.0 L乙二醇,O.5~1.0g/L磷酸 ,0.5~1.0g/L甲醛 ,O.5~1.0g/LOP一1O,温 度8O~85cc,pH值0.6~0.8。该工艺可实现连续化学镀锡 ,施镀 3h厚度可达 32.72I.Lm。 [关键词] 化学镀锡;工艺参数;连续化学镀;厚度;表面形貌 [中图分类号]TQ153.1 [文献标识码]A [文章编号]1001―1560 2009 05―0032―04
O 前 言 度、表面形貌及成分,分析了各种因素如镀液主成分、 工艺条件等对镀层性能的影响,并探讨 了连续化学镀 近年来,镀锡层作为可焊性镀层已广泛应用于以铜 锡的最佳工艺参数,,提出了连续化学镀厚锡的技术。
和铜合金为基体 的电子元器件和半导体封装等行
业_l],作为防护性镀层也已广泛应用于给水系统中铜 1 试 验
和铜合金管内表面的镀覆 J。由于铅带来的污染 日益 1.1 工艺流程
严重,锡铅合金镀层的应用受到越来越多的限制。无铅 试样 铜片28.0mm×12.0mm×1.5mm 一镀前
可焊性锡基合金镀覆技术在国内外的报道不多 J。因 预处理 除油、活化 一化学镀锡一调整工艺参数、
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本文编号:165542
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