电沉积铬铁合金工艺、性能及机理研究

发布时间：2022-01-24 21:58

　　铬铁合金镀层具有与铬镀层相似的外观,以及良好的耐蚀性和硬度,可作为传统六价铬镀铬的替代镀层;非晶态铬铁合金还表现出电磁性能和催化活性,也可作为功能性材料,具有良好的研究价值和应用前景。本文在研发的三价铬镀铬工艺基础上,开发出一种稳定性好、镀层组成可控的铬铁合金电沉积工艺。通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜、显微硬度计和电化学实验等对铬铁合金镀层及性能进行了表征。利用差示扫描量热仪、X射线衍射仪和俄歇电子能谱等研究铬铁合金镀层的晶化过程和表面态变化,明确热处理对镀层结构和性能的影响。采用阴极极化曲线和密度泛函理论研究配位剂对三价铬电沉积的影响,并通过原位FTIR红外光谱初步探究铬铁共沉积机理和添加剂作用机理。主要结果如下:（1）铬铁合金电沉积及镀层表征通过添加剂筛选和Hull Cell等实验成功开发出以草酸、甘氨酸为配位剂,抗坏血酸为稳定剂的铬铁合金电沉积工艺,镀液组成以及工艺条件为:H2C2O4·2H2O 5 g·L-1,NH2CH2COOH5 g·L-1,Cr2（SO4）3·6H2O 25 g L-1,H3BO3 80 g·L-1,Na2SO4 100 g·L-1,K2SO4 20 g... 

【文章来源】：厦门大学福建省 211工程院校 985工程院校 教育部直属院校

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【学位级别】：硕士

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本文编号：3607371