温度对电子束沉积Nb 2 O 5 薄膜性能的影响

发布时间：2023-11-07 19:49

　　氧化铌作为一种重要的氧化物薄膜材料在可见到中波红外波段广泛应用。基于电子束加热蒸发方法,研究了不同温度条件下一定厚度的氧化铌薄膜的微观结构及特性,通过Kim振动模型拟合不同工艺条件下氧化铌的光学常数色散分布,采用X射线衍射仪(X-Ray Diffraction,XRD)测试薄膜的结晶态,并用原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)检测薄膜表面粗糙度,分析温度对膜层表面粗糙度的影响规律。

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【文章目录】：
1 薄膜光学常数拟合模型
2 沉积实验
3 实验结果分析
    3.1 光谱性能测试及光学常数的准确拟合
    3.2 Nb2O5薄膜XRD测试
    3.3 Nb2O5表面形貌分析
4 结论



本文编号：3861335