Al/Ti对磁控溅射TiAlN膜层结构、硬度和摩擦性能的影响

发布时间：2021-11-15 10:15

　　采用磁控溅射技术在炮钢基材表面制备不同Ti靶电流的TiAlN膜层。利用激光共聚焦、X射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪、多功能材料表面性能测试仪、蔡司显微镜等检测方法,研究不同Al/Ti对TiAlN膜层的粗糙度,相结构、纳米硬度、摩擦性能的影响。结果表明:磁控溅射沉积TiAlN膜层光滑致密,无大液滴,以TiN（200）、（220）为主相择优生长。Al/Ti比值为1.32时,薄膜硬度处于峰值区,纳米硬度最高可达19GPa。Al/Ti比值为0.87时硬度略微降低,但表面粗糙度最小为0.029μm,摩擦系数保持稳定最低为0.4723左右。Al/Ti比值为0.87时,表现出较好的抗磨损性能。 

【文章来源】：科学技术与工程. 2016,16(31)北大核心

【文章页数】：6 页

【文章目录】：
1 实验材料与方法
    1.1 试样的制备
    1.2 Ti Al N膜层的制备
    1.3 Ti Al N膜层的表征方法
2 实验结果与讨论
    2.1 Ti Al N膜层的成分
    2.2 膜层的宏观形貌及表面粗糙度分析
    2.3 膜层的XRD物相分析
    2.4 膜层的纳米硬度与弹性模量分析
    2.5 膜层的室温摩擦磨损分析
3 结论


【参考文献】：
期刊论文
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硕士论文
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本文编号：3496580