一种基于基板缺陷的共面波导电磁带隙结构

发布时间：2018-03-23 02:06

  本文选题：电磁带隙　切入点：基板缺陷　出处：《半导体光电》2015年06期 　论文类型：期刊论文

【摘要】：提出了一种通过湿法腐蚀实现的基板缺陷共面波导电磁带隙结构,并进行了建模仿真、加工和测试。重点研究了基板缺陷结构与传统金属缺陷结构的差异,以及采用湿法腐蚀工艺的优势。实验结果显示:新结构具有明显的电磁带隙特性;与干法刻蚀工艺相比,采用湿法腐蚀工艺加工可以获得更宽的阻带范围和更强的阻带抑制。该结构完整保留了50Ω共面波导的信号线和接地板金属,可以与传统的金属缺陷结构结合,以获得性能更好的器件。
[Abstract]:A coplanar wave conductive tape gap structure of substrate defects realized by wet etching is proposed, and its modeling, simulation, machining and testing are carried out. The difference between substrate defect structure and traditional metal defect structure is studied emphatically. The experimental results show that the new structure has obvious electromagnetic band gap characteristics, and compared with the dry etching process, the new structure has the advantages of wet etching. A wider stopband range and stronger stopband suppression can be obtained by wet etching process. The structure preserves the signal line of 50 惟 coplanar waveguide and the floor metal completely, and can be combined with the traditional metal defect structure. To get better performance devices.
【作者单位】： 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;
【基金】：上海市科委基础研究重点项目(14JC1407500)
【分类号】：TG111.2;O734

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本文编号：1651400