磁流变抛光技术在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所研究进展（英文）

发布时间：2018-06-13 20:40

本文选题：光学制造 + 磁流变抛光　；参考：《激光与光电子学进展》2015年09期

【摘要】：简述了国内外磁流变抛光技术的研究历史和现状。介绍了磁流变抛光技术的抛光原理、特性及优点。着重阐述了长春光学精密机械与物理研究所近几年来在磁流变抛光技术研究方面的最新进展,解决了磁流变抛光的若干关键技术,主要包括:研制出一种新型磁流变抛光液,这种磁流变抛光液具有优良的流变性和较高的抛光效率;研究出一种基于矩阵代数运算模型的磁流变抛光驻留时间求解算法;为了增加去除函数(抛光区)面积、提高材料去除效率,研制出适合大口径非球面反射镜加工的带式磁流变抛光机。
[Abstract]:The history and present situation of magnetorheological polishing technology at home and abroad are briefly described. The polishing principle, characteristics and advantages of magnetorheological polishing technology are introduced. The latest progress in magnetorheological polishing technology in Changchun Institute of Optical Precision Machinery and Physics in recent years is described. Some key technologies of MRP are solved, including: developing a new magnetorheological polishing fluid. The magnetorheological polishing fluid has excellent rheological properties and high polishing efficiency. An algorithm for solving the residence time of MRF based on matrix algebraic operation model is developed. In order to increase the area of the removal function (polishing area), In order to improve the material removal efficiency, a belt magnetorheological polishing machine suitable for large aperture aspherical mirror was developed.
【作者单位】：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术中国科学院重点实验室;
【基金】：国家自然科学基金(61210015)
【分类号】：TG580.692

【参考文献】

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【共引文献】

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