半导体工业用镍铂合金靶材的制备及结构研究

发布时间：2018-06-17 20:25

  本文选题：金属材料 + NiPt合金靶材　； 参考：《贵金属》2015年04期

【摘要】：采用熔炼、均匀化退火处理及温轧技术制备出NiPt合金靶材。采用金相、扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等手段对NiPt合金在制备过程中的结构变化进行了研究。同时也研究了靶材结构与靶材溅射后表面形貌之间的关联性。研究表明,均匀化处理对NiPt合金获得择优取向具有明显影响,合金经过铸造、均匀化、轧制等工艺,其硬度分别为292、218、439,可分别形成(200)织构、(311)织构、(200)+(220)织构。靶材微观结构与溅射后表面形貌均匀性具有关联性。
[Abstract]:NiPt alloy targets were prepared by melting, homogenizing annealing and warm rolling. The structural changes of NiPt alloy during the preparation process were studied by means of metallography, SEM and X-ray diffraction (XRD). The relationship between target structure and surface morphology after sputtering was also studied. The results show that homogenization treatment has an obvious effect on the preferred orientation of NiPt alloy. After casting, homogenization and rolling, the hardness of NiPt alloy is 292218439, respectively. The microstructure of target is related to the homogeneity of surface morphology after sputtering.
【作者单位】： 贵研铂业股份有限公司稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室昆明贵金属研究所云南省贵金属材料重点实验室;
【基金】：云南省对外科技合作计划项目(2014IA037) 云南省战略性新兴产业发展专项资金项目
【分类号】：TG146.15;TN305

【参考文献】

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【二级参考文献】

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本文编号：2032341