沉积气压对杂化离子镀TiCN薄膜结构和性能的影响
[Abstract]:TiCN film has a wide application prospect in the field of tool die, but its structure and properties are often different with the preparation process parameters. In order to study the effect of deposition pressure on the structure and properties of hybrid ion plating (TiCN) thin films, appropriate ar and N2 partial pressure ratios were found to optimize the process parameters. Hybrid ion plating technology was used to prepare TiCN films on high speed steel, silicon and stainless steel substrates. Different films were obtained by changing the partial pressure of ar and N2 during deposition. The phase structure, surface morphology, microhardness, friction coefficient and deposition rate of the films were characterized by X-ray diffractometer, scanning electron microscope, Vickers hardness tester and friction wear tester XP-2. The results show that the preferred growth direction of the W TiCN film is the (111) crystal plane of the TiCN phase, and the microhardness of the film increases first and then decreases when the ar partial pressure is kept constant and the N _ 2 partial pressure is increased, that is, the deposition pressure is increased, and then the microhardness of the film is decreased.
【作者单位】： 天津师范大学物理与材料科学学院;
【基金】：天津市大学生创新创业训练计划项目(201510065021)
【分类号】：TG174.4
【参考文献】
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，本文编号：2155415
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