基材偏压对中频磁控溅射氮化铬薄膜微观结构和性能的影响

发布时间：2023-10-08 18:05

　　采用中频磁控溅射系统在手机不锈钢装饰件上沉积氮化铬薄膜,利用X射线衍射、扫描电镜、纳米压痕仪和球盘摩擦仪考察了基材偏压对薄膜微观结构、沉积速率、显微硬度和摩擦性能的影响。结果表明:氮化铬薄膜主要为面心立方晶相结构,存在(200)晶面择优取向;薄膜表面晶粒呈颗粒状且均匀致密地沉积在基材上,截面为柱状晶结构且柱状晶之间结合紧密;沉积速率随基材偏压的增大而增大;在基材偏压为-100 V时,薄膜显微硬度最高(为1 207 HV),摩擦因数最小(为0.31)。

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【文章目录】：
1 实验
    1.1 薄膜制备
    1.2 表征与性能测试
2 结果与讨论
    2.1 基材偏压对薄膜组织结构和沉积速率的影响
    2.2 基材偏压对薄膜显微硬度和摩擦学性能的影响
3 结论



本文编号：3852524